导线阵列产生的微电磁力操纵磁粒子研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-23页 |
| ·细胞操纵的研究意义 | 第12页 |
| ·细胞操纵方法 | 第12-22页 |
| ·微磁力操纵 | 第13-15页 |
| ·光操纵 | 第15-18页 |
| ·机械操纵 | 第18-19页 |
| ·电泳操纵 | 第19-21页 |
| ·细胞操纵研究的发展方向 | 第21-22页 |
| ·选题依据与论文内容 | 第22-23页 |
| 第2章 导线阵列设计与理论计算 | 第23-32页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·磁粒子 | 第23-25页 |
| ·磁粒子的特性 | 第23-24页 |
| ·磁粒子的表面修饰 | 第24-25页 |
| ·导线阵列设计 | 第25-26页 |
| ·电磁场仿真 | 第26-29页 |
| ·电磁场理论计算 | 第26-27页 |
| ·电磁操纵力理论计算 | 第27-29页 |
| ·温度场分析理论 | 第29-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第3章 导线阵列模拟分析 | 第32-46页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·分析基本假设 | 第32页 |
| ·ANSYS的电磁场分析流程 | 第32-33页 |
| ·电磁场分析 | 第33-38页 |
| ·前处理 | 第33-38页 |
| ·求解 | 第38页 |
| ·后处理 | 第38页 |
| ·Matlab电磁力模拟 | 第38-42页 |
| ·温度场分析 | 第42-45页 |
| ·前处理 | 第42-44页 |
| ·求解 | 第44页 |
| ·后处理 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第4章 双层微导线阵列的制作工艺 | 第46-60页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·制作工艺流程 | 第46-47页 |
| ·详细工艺步骤 | 第47-57页 |
| ·清洗 | 第47-49页 |
| ·硅片的清洗 | 第47-48页 |
| ·掩膜版的清洗 | 第48页 |
| ·其它实验器件的清洗 | 第48-49页 |
| ·PECVD | 第49-51页 |
| ·光刻 | 第51-53页 |
| ·磁控溅射 | 第53-55页 |
| ·剥离 | 第55-57页 |
| ·工艺中的问题及解决方法 | 第57-58页 |
| ·制作完成的导线阵列 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 第5章 微导线阵列外围电路设计 | 第60-83页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·参数测量 | 第60-61页 |
| ·膜厚测量 | 第60页 |
| ·导线通断 | 第60-61页 |
| ·导线阵列电阻 | 第61-62页 |
| ·超声焊 | 第62-63页 |
| ·微导线阵列模型 | 第63-64页 |
| ·PCI1204 | 第64-74页 |
| ·开关量部分 | 第64-65页 |
| ·工作原理 | 第65页 |
| ·开关量输入输出使用与操作 | 第65-66页 |
| ·函数调用说明 | 第66-67页 |
| ·电流流向推理图表 | 第67-72页 |
| ·PCI1024开关量输出操作界面 | 第72-73页 |
| ·微电磁力操纵磁粒子实验系统 | 第73-74页 |
| ·电路原理图 | 第74-75页 |
| ·单片机实验平台 | 第75-77页 |
| ·单片机实验电路仿真 | 第75-77页 |
| ·实验操作平台 | 第77页 |
| ·实验结果及分析 | 第77-83页 |
| 第6章 总结与展望 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第88页 |
