摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-12页 |
目录 | 第12-16页 |
第1章 绪论 | 第16-54页 |
·研究背景 | 第16-17页 |
·高硅钢发展和制备 | 第17-31页 |
·硅钢的分类和发展 | 第17-18页 |
·铁硅合金特性 | 第18-19页 |
·高硅钢的特性 | 第19-21页 |
·高硅钢制备工艺 | 第21-30页 |
·高硅钢制备过程中存在的问题 | 第30-31页 |
·激光表面技术及激光熔覆技术 | 第31-42页 |
·激光表面技术 | 第31-32页 |
·激光熔覆技术及特点 | 第32-33页 |
·激光熔覆工艺 | 第33-39页 |
·激光熔覆层的表面形貌、组织特征及界面问题 | 第39-41页 |
·激光熔覆缺陷及其控制 | 第41-42页 |
·钢材表面激光熔覆制备高硅涂层的探索 | 第42页 |
·本文研究目的与主要内容 | 第42-44页 |
参考文献 | 第44-54页 |
第2章 实验材料和实验方法 | 第54-62页 |
·实验材料 | 第54页 |
·基体材料 | 第54页 |
·熔覆材料 | 第54页 |
·激光熔覆实验 | 第54-57页 |
·预置涂层工艺 | 第54-56页 |
·激光熔覆工艺 | 第56-57页 |
·激光熔覆样品和退火样品的表征与分析 | 第57-62页 |
·熔覆样品表面形貌和显微组织观察 | 第57-59页 |
·熔覆样品X射线衍射物相分析 | 第59页 |
·熔覆样品微结构表征 | 第59-60页 |
·熔覆样品成分分析 | 第60页 |
·熔覆样品显微硬度测量 | 第60页 |
·熔覆样品高温扩散退火处理 | 第60页 |
·熔覆并退火样品成分和显微硬度测量 | 第60-61页 |
·熔覆并退火样品磁性能测量 | 第61-62页 |
第3章 单道激光熔覆涂层的制备与表征 | 第62-84页 |
·引言 | 第62页 |
·单道激光熔覆工艺探索与优化 | 第62-70页 |
·单道激光熔覆工艺探索 | 第62-65页 |
·影响单道激光熔覆涂层质量的因素 | 第65-70页 |
·优化工艺制备的单道熔覆涂层的组织与凝固过程分析 | 第70-76页 |
·熔覆层表面形貌和金相组织观察 | 第70-73页 |
·单道激光熔覆熔池特征及凝固行为分析 | 第73-76页 |
·单道熔覆层中Si含量测定 | 第76-79页 |
·单道熔覆层显微硬度分布 | 第79-80页 |
·本章小结 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-84页 |
第4章 多道搭接激光熔覆涂层的制备与表征 | 第84-134页 |
·引言 | 第84-85页 |
·激光工艺参数对熔覆过程、涂层组织和性能的影响 | 第85-101页 |
·激光功率 | 第86-92页 |
·激光扫描速度 | 第92-100页 |
·预置涂层厚度与搭接率 | 第100-101页 |
·激光熔覆涂层中存在的缺陷 | 第101-103页 |
·裂纹及涂层的剥落 | 第101-102页 |
·涂层中合金元素的烧损 | 第102页 |
·显微偏析 | 第102-103页 |
·搭接区组织不均匀 | 第103页 |
·优化参数制备的多道搭接激光熔覆涂层的表征 | 第103-127页 |
·多道搭接激光熔覆工艺优化 | 第103-104页 |
·优化参数下多道搭接激光熔覆层显微组织观察与分析 | 第104-107页 |
·优化参数下多道搭接激光熔覆层X射线衍射物相分析 | 第107-109页 |
·优化参数下多道搭接激光熔覆层的TEM观察及凝固行为分析 | 第109-117页 |
·优化参数下多道搭接激光熔覆层穆斯堡尔谱微结构表征 | 第117-123页 |
·优化参数下多道搭接激光熔覆层Si含量测定 | 第123-126页 |
·优化参数下多道搭接激光熔覆层显微硬度分布 | 第126-127页 |
·本章小结 | 第127-129页 |
参考文献 | 第129-134页 |
第5章 激光熔覆高硅涂层过程中熔体热力学性质的计算 | 第134-146页 |
·引言 | 第134页 |
·激光熔池温度场和热力学模型的建立 | 第134-138页 |
·激光熔池温度场分析 | 第134-136页 |
·二元合金生成热、过剩熵、过剩自由能的计算 | 第136-137页 |
·三元合金生成热、过剩熵、过剩自由能及组元交互作用系数计算 | 第137-138页 |
·结果与讨论 | 第138-143页 |
·熔池内熔体生成热的计算 | 第139-140页 |
·熔池内熔体Si元素活度交互作用系数的计算 | 第140-142页 |
·熔池内温度场对硅元素活度的影响 | 第142-143页 |
·本章小结 | 第143-144页 |
参考文献 | 第144-146页 |
第6章 激光熔覆高硅涂层退火后磁性能研究 | 第146-160页 |
·引言 | 第146页 |
·多道搭接熔覆样品的扩散退火处理 | 第146-147页 |
·铁磁性物质磁饱和及磁滞现象 | 第147页 |
·室温静态磁性能测定 | 第147-148页 |
·结果与讨论 | 第148-156页 |
·熔覆样品扩散退火后表面相组成 | 第148-149页 |
·熔覆样品扩散退火后硬度与Si含量分布 | 第149-151页 |
·熔覆样品扩散退火后试样磁性能检测 | 第151-156页 |
·本章小节 | 第156-157页 |
参考文献 | 第157-160页 |
第7章 结论 | 第160-162页 |
工作展望 | 第162-164页 |
创新点 | 第164-166页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第166-168页 |
致谢 | 第168-170页 |
个人简历 | 第170-171页 |
附录 | 第171页 |