| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-45页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·半导体光催化作用原理 | 第10-12页 |
| ·TiO_2光催化剂的研究进展 | 第12-27页 |
| ·贵金属修饰半导体 | 第12-14页 |
| ·金属离子掺杂 | 第14-18页 |
| ·过渡金属离子掺杂 | 第14-15页 |
| ·稀土金属离子掺杂 | 第15-17页 |
| ·碱土金属离子掺杂 | 第17页 |
| ·贵金属离子掺杂 | 第17-18页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第18-23页 |
| ·N掺杂 | 第18-21页 |
| ·S掺杂 | 第21-22页 |
| ·C掺杂 | 第22页 |
| ·F掺杂 | 第22-23页 |
| ·半导体复合 | 第23-24页 |
| ·离子共掺杂 | 第24-26页 |
| ·表面光敏化 | 第26-27页 |
| ·其他新型窄禁带可见光半导体光催化剂 | 第27-33页 |
| ·新型可见光催化剂硫氧化物 | 第27-31页 |
| ·硫氧化物的制备方法 | 第28-30页 |
| ·固相反应法 | 第28-29页 |
| ·固气反应法 | 第29页 |
| ·溶剂热合成法 | 第29-30页 |
| ·微波辐射法 | 第30页 |
| ·硫氧化物纳米材料的制备方法 | 第30-31页 |
| ·其他新型窄带可见光光催化剂 | 第31-33页 |
| ·研究展望 | 第33-34页 |
| ·选题依据和意义 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-45页 |
| 第二章 Zr和S共掺杂TiO_2光催化剂的制备及性能 | 第45-59页 |
| ·前言 | 第45-46页 |
| ·实验部分 | 第46-47页 |
| ·主要试剂 | 第46页 |
| ·主要仪器 | 第46页 |
| ·催化剂的制备 | 第46-47页 |
| ·S-TiO_2光催化剂的制备(高温固相) | 第46-47页 |
| ·Zr-S-TiO_2光催化剂的制备(浸渍法) | 第47页 |
| ·Pt/Zr-S-TiO_2的制备及光催化反应 | 第47页 |
| ·光催化剂的表征 | 第47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-55页 |
| ·试样的表征 | 第47-52页 |
| ·UV-Vis漫反射表征结果 | 第48-49页 |
| ·试样的XRD表征结果 | 第49-51页 |
| ·试样的FTIR表征结果 | 第51-52页 |
| ·光催化性能的研究 | 第52-55页 |
| ·S掺杂量和煅烧温度的确定 | 第52-54页 |
| ·Zr掺杂量对光催化剂活性的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 第三章 改进共沉淀-气固法合成可见光催化剂Sm_2Ti_2S_2O_5及其性能研究 | 第59-69页 |
| ·前言 | 第59-60页 |
| ·实验部分 | 第60-61页 |
| ·主要试剂 | 第60页 |
| ·主要仪器 | 第60页 |
| ·催化剂的制备 | 第60-61页 |
| ·催化剂的表征 | 第61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-66页 |
| ·共沉淀反应条件的控制 | 第62-63页 |
| ·H_2O_2的应用 | 第62-63页 |
| ·温度对反应的影响 | 第63页 |
| ·NaOH用量与加入方式对反应的影响 | 第63页 |
| ·试样的表征 | 第63-66页 |
| ·试样的XRD表征结果 | 第63-65页 |
| ·UV-Vis漫反射表征结果 | 第65-66页 |
| ·光催化性能的研究 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 第四章 结论 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读研究生学位期间的研究成果 | 第71页 |