| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-18页 |
| ·课题背景 | 第7-8页 |
| ·大孔有序材料的研究现状 | 第8-11页 |
| ·有序大孔材料的研究进展 | 第9-10页 |
| ·有序材料发展前景 | 第10-11页 |
| ·离子液体电沉积的研究现状 | 第11-17页 |
| ·离子液体的简介 | 第11-12页 |
| ·离子液体的性质 | 第12-13页 |
| ·离子液体电沉积半导体材料 | 第13-17页 |
| ·本课题的主要研究内容和创新性 | 第17-18页 |
| ·本课题的主要内容 | 第17页 |
| ·本课题的创新性 | 第17-18页 |
| 第2章 实验材料及测试方法 | 第18-25页 |
| ·实验材料和仪器设备 | 第18-19页 |
| ·主要实验试剂 | 第18-19页 |
| ·主要仪器设备 | 第19页 |
| ·实验技术及工艺流程 | 第19-24页 |
| ·胶体晶体模板模板的制备 | 第20-21页 |
| ·电沉积工艺 | 第21-22页 |
| ·电沉积原理 | 第22-24页 |
| ·测试和表征方法 | 第24-25页 |
| ·SEM 分析和EDX 分析 | 第24页 |
| ·激光共聚焦显微镜 | 第24页 |
| ·电化学测试 | 第24页 |
| ·XPS 测试 | 第24页 |
| ·光学测试 | 第24页 |
| ·热重、差热分析 | 第24-25页 |
| 第3章 离子液体中电沉积硅薄膜 | 第25-50页 |
| ·[Hmim]FAP 中电沉积硅薄膜 | 第26-38页 |
| ·[Hmim]FAP 物理化学性质 | 第26-27页 |
| ·在[Hmim]FAP 中电沉积Si 循环伏安曲线 | 第27-31页 |
| ·在[Hmim]FAP 离子液体中电沉积Si | 第31-33页 |
| ·沉积Si 薄膜的SEM 形貌 | 第33-34页 |
| ·沉积Si 薄膜的成分表征 | 第34-38页 |
| ·[Py_(1,4)]Tf_2N 中电沉积硅薄膜 | 第38-49页 |
| ·[Py_(1,4)]Tf_2N 物理化学性质 | 第38-39页 |
| ·[Py_(1,4)]Tf_2N 的电化学性质的研究 | 第39-42页 |
| ·在Py_(1,4)Tf_2N 离子液体中电沉积Si | 第42-44页 |
| ·电沉积Si 薄膜的形貌分析 | 第44-45页 |
| ·电沉积Si 薄膜的成分分析 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 电沉积制备有序大孔Si 及其表征 | 第50-61页 |
| ·胶体晶体模板 | 第50-53页 |
| ·胶体晶体模板的制备 | 第50页 |
| ·胶体晶体模板的表征和性能分析 | 第50-53页 |
| ·电沉积填充胶体晶体模板 | 第53页 |
| ·理论与测试结构的分析 | 第53-55页 |
| ·有序大孔Si 薄膜的表征分析 | 第55-60页 |
| ·有序大孔Si 薄膜的SEM 分析 | 第55-57页 |
| ·有序大孔Si 薄膜成分分析 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 个人简历 | 第72页 |
