| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-32页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·物理气相沉积 | 第13-21页 |
| ·等离子体 | 第13-14页 |
| ·溅射沉积 | 第14-15页 |
| ·反应溅射沉积 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射沉积 | 第16-18页 |
| ·脉冲磁控溅射沉积 | 第18-19页 |
| ·阴极弧蒸发沉积 | 第19-21页 |
| ·薄膜生长 | 第21-26页 |
| ·薄膜形核与生长 | 第21-23页 |
| ·薄膜生长过程与薄膜结构 | 第23-26页 |
| ·薄膜的热稳定性 | 第26-27页 |
| ·回复 | 第26-27页 |
| ·再结晶 | 第27页 |
| ·固态相变 | 第27页 |
| ·Ti-Al-N薄膜 | 第27-30页 |
| ·选题背景和研究内容 | 第30-32页 |
| ·选题背景 | 第30-31页 |
| ·本文研究内容 | 第31-32页 |
| 第二章 涂层的制备与检测 | 第32-39页 |
| ·基体选择 | 第32页 |
| ·涂层沉积设备 | 第32-34页 |
| ·Langmuir探针测试 | 第34页 |
| ·涂层检测方法与检测设备 | 第34-37页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第34页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第34页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第34页 |
| ·纳米硬度(Nano-indentor) | 第34-37页 |
| ·应力 | 第37页 |
| ·涂层的热稳定性 | 第37-39页 |
| ·热分析 | 第37-38页 |
| ·回火 | 第38-39页 |
| 第三章 反应溅射沉积Ti-Al-N涂层 | 第39-59页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·实验过程 | 第40-41页 |
| ·结果和讨论 | 第41-57页 |
| ·沉积速率与等离子体状况(J_(ion)/J_(me)、V_p) | 第41-46页 |
| ·沉积速率和离子与原子比率之间的关系 | 第46页 |
| ·Ti-Al-N涂层的化学组成与结构 | 第46-56页 |
| ·表面扩散能力对涂层结构的影响 | 第56-57页 |
| ·本章结论 | 第57-59页 |
| 第四章 Ti-Al-N涂层的热稳定性与时效硬化 | 第59-72页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·实验过程 | 第59-60页 |
| ·涂层制备 | 第59-60页 |
| ·结构性能表征 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-71页 |
| ·Ti-Al-N涂层的组成和结构 | 第60-61页 |
| ·Ti-Al-N涂层的热稳定性分析 | 第61-70页 |
| ·c-Ti_(1-x)Al_xN涂层的时效硬化 | 第70-71页 |
| ·结论 | 第71-72页 |
| 第五章 Ti-Al-Si-N纳米复合涂层的结构与性能 | 第72-91页 |
| ·引言 | 第72-73页 |
| ·实验过程 | 第73页 |
| ·涂层制备 | 第73页 |
| ·微观结构及性能表征 | 第73页 |
| ·结果与讨论 | 第73-90页 |
| ·Ti-Si-N涂层的组成结构和性能 | 第73-77页 |
| ·Ti-Al-Si-N涂层的组成结构和性能 | 第77-80页 |
| ·Ti-Si-N与Ti-Al-Si-N涂层的热稳定性 | 第80-89页 |
| ·Ti-Al-Si-N涂层的时效硬化 | 第89-90页 |
| ·结论 | 第90-91页 |
| 第六章 Ti-Al-Zr-N涂层的微结构及热稳定性 | 第91-105页 |
| ·引言 | 第91页 |
| ·实验过程 | 第91-92页 |
| ·涂层制备 | 第91-92页 |
| ·结构性能表征 | 第92页 |
| ·结果与讨论 | 第92-104页 |
| ·Ti-Zr-N涂层的组成和结构 | 第92-93页 |
| ·Ti-Al-Zr-N涂层的组成和结构 | 第93-95页 |
| ·Zr-Al-N涂层的结构和热稳定性 | 第95-99页 |
| ·Ti-Al-Zr-N涂层的热稳定性 | 第99-104页 |
| ·本章结论 | 第104-105页 |
| 第七章 Ti-Al-N基涂层的应用 | 第105-125页 |
| ·引言 | 第105页 |
| ·TiN/(Ti,Al)N多层涂层的应用 | 第105-109页 |
| ·实验过程 | 第105-106页 |
| ·结果与讨论 | 第106-109页 |
| ·小结 | 第109页 |
| ·Ti-Al-N涂层时效硬化的应用 | 第109-116页 |
| ·实验过程 | 第110-112页 |
| ·结果与讨论 | 第112-116页 |
| ·小结 | 第116页 |
| ·Ti-Al-Si-N涂层的应用 | 第116-124页 |
| ·实验过程 | 第116-118页 |
| ·结果与讨论 | 第118-123页 |
| ·小结 | 第123-124页 |
| ·本章结论 | 第124-125页 |
| 第八章 结论 | 第125-127页 |
| 参考文献 | 第127-142页 |
| 致谢 | 第142-143页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第143-145页 |
