| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 1 引言 | 第11-26页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO微纳结构的性能和器件 | 第12-16页 |
| ·电学性能 | 第12-13页 |
| ·气体传感器 | 第13-14页 |
| ·光学性能 | 第14-15页 |
| ·压电性能 | 第15-16页 |
| ·ZnO微纳结构的制备方法 | 第16-20页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第16-19页 |
| ·水热法 | 第19-20页 |
| ·模板辅助下ZnO阵列结构的制备与应用 | 第20-25页 |
| ·传统光刻技术 | 第21-22页 |
| ·电子束刻蚀技术 | 第22-23页 |
| ·纳米微球刻蚀技术 | 第23-24页 |
| ·阳极氧化铝模板 | 第24-25页 |
| ·本论文的主要内容 | 第25-26页 |
| 2 磁控溅射制得的籽晶层上水热制备一维ZnO纳米阵列 | 第26-39页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·ZnO一维纳米阵列的制备 | 第26-27页 |
| ·籽晶层薄膜的制备 | 第26页 |
| ·ZnO一维纳米阵列的制备 | 第26-27页 |
| ·实验结果与分析 | 第27-37页 |
| ·磁控溅射参数对纳米棒阵列形貌的影响 | 第27-31页 |
| ·生长液浓度的影响 | 第31-34页 |
| ·添加辅助试剂的影响 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 3 光刻胶微孔模板辅助下ZnO微纳结构的生长 | 第39-65页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·光刻胶模板对ZnO纳米/微米棒阵列生长位置的控制 | 第39-44页 |
| ·制备工艺流程 | 第40页 |
| ·实验结果与讨论 | 第40-44页 |
| ·生长位置精确可控的ZnO盘状晶体 | 第44-46页 |
| ·模板辅助下分步合成实现对单根ZnO一维结构生长位置的控制 | 第46-50页 |
| ·制备工艺流程 | 第46页 |
| ·样品的形貌表征 | 第46-47页 |
| ·对一维阵列直径及长度的控制 | 第47-50页 |
| ·光刻胶模板与修饰剂双重作用下的生长机理 | 第50-54页 |
| ·两步生长后光刻胶孔内晶体个数的影响因素 | 第54-61页 |
| ·光刻胶模板尺寸的影响 | 第54-56页 |
| ·第一步生长时间的影响 | 第56-57页 |
| ·第一步生长时溶液中锌盐浓度的影响 | 第57-60页 |
| ·柠檬酸钠浓度的影响 | 第60-61页 |
| ·锌盐浓度、柠檬酸钠浓度及第一次生长时间的相互关系 | 第61页 |
| ·模板限制下ZnO晶体的多样化制备 | 第61-64页 |
| ·本章小节 | 第64-65页 |
| 4 磁控溅射制备大面积ZnO纳米碗阵列薄膜 | 第65-70页 |
| ·引言 | 第65页 |
| ·薄膜制备流程 | 第65-66页 |
| ·胶体晶体模板的制备 | 第65-66页 |
| ·纳米碗模板的制备 | 第66页 |
| ·实验结果与分析 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 5 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 作者简历 | 第76-78页 |
| 学位论文数据集 | 第78页 |
