自支撑X射线透射光栅的制备及测试
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·X射线镂空透射光栅的研究现状及应用 | 第10-12页 |
| ·X射线镂空透射光栅的制作技术 | 第12-16页 |
| ·全息光刻技术 | 第13-14页 |
| ·机械刻划 | 第14页 |
| ·电子束光刻 | 第14-15页 |
| ·电子束光刻和X射线光刻 | 第15-16页 |
| ·论文的主要工作 | 第16-17页 |
| ·论文的内容安排 | 第17-19页 |
| 第2章 X射线透射光栅参数优化设计 | 第19-37页 |
| ·标量衍射理论 | 第19-20页 |
| ·光栅的分光性能 | 第20-22页 |
| ·光栅方程 | 第20页 |
| ·光栅的色散本领 | 第20-21页 |
| ·光栅的色分辨率本领 | 第21-22页 |
| ·光栅的自由光谱范围 | 第22页 |
| ·矢量衍射理论FDTD算法基本原理 | 第22-30页 |
| ·矢量电磁场理论FDTD算法 | 第22-23页 |
| ·MAXWELL方程的离散化 | 第23-24页 |
| ·直角坐标系中的二维FDTD的差分格式 | 第24-26页 |
| ·吸收边界条件的设置 | 第26-30页 |
| ·数值稳定性分析 | 第30页 |
| ·标量和矢量衍射模拟结果及优化设计 | 第30-35页 |
| ·标量模拟结果 | 第30-32页 |
| ·矢量模拟结果 | 第32-34页 |
| ·光栅结构的优化设计 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第3章 基于镂空薄膜的电子束光刻技术 | 第37-51页 |
| ·电子束光刻技术简介 | 第37-38页 |
| ·电子束光刻工艺流程 | 第38-40页 |
| ·电子束光刻制作镂空X射线透射光栅掩模 | 第40-48页 |
| ·透射光栅衬底的准备 | 第40-41页 |
| ·制备工艺过程 | 第41-45页 |
| ·工艺参数优化 | 第45-46页 |
| ·2000 线/毫米X射线透射光栅掩模 | 第46-47页 |
| ·3333 线/毫米X射线透射光栅掩模 | 第47页 |
| ·1000 线/毫米X射线单级衍射光栅掩模 | 第47-48页 |
| ·大面积透射光栅的制备 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第4章 X射线光刻技术及镂空X射线透射光栅制备 | 第51-63页 |
| ·X射线光刻技术简介 | 第51-53页 |
| ·国家同步辐射实验室光刻站 | 第52-53页 |
| ·北京同步辐射实验光刻站 | 第53页 |
| ·X射线光刻工艺复制镂空透射光栅 | 第53-56页 |
| ·镂空X射线透射光栅集成 | 第56-61页 |
| ·自支撑结构的制作 | 第56-58页 |
| ·加强筋结构优化 | 第58-61页 |
| ·镂空透射光栅的装配 | 第61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第5章 镂空X射线透射光栅的测试及分析 | 第63-77页 |
| ·测试实验站简介 | 第63-64页 |
| ·衍射效率测试 | 第64-73页 |
| ·2000 线/毫米镂空透射光栅的测试和分析 | 第64-69页 |
| ·3333 线/毫米镂空透射光栅的测试和分析 | 第69-70页 |
| ·1000 线/毫米单级衍射光栅的测试和分析 | 第70-73页 |
| ·振动测试实验 | 第73-74页 |
| ·本章小节 | 第74-77页 |
| 第6章 总结和展望 | 第77-79页 |
| ·总结 | 第77页 |
| ·展望 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 附件 | 第85-89页 |
| 攻读硕士期间发表论文、申请专利及软件著作权登记 | 第89-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
