| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| 前言 | 第9页 |
| ·纳米材料概述 | 第9-11页 |
| ·纳米材料基本概念和主要性质 | 第9-11页 |
| ·纳米材料发展历程和发展趋势 | 第11-12页 |
| ·纳米材料发展历程 | 第11页 |
| ·纳米材料发展趋势 | 第11-12页 |
| ·纳米材料制备方法和表征手段 | 第12-16页 |
| ·纳米材料制备方法 | 第12-13页 |
| ·纳米材料的表征手段 | 第13-16页 |
| ·一维纳米材料的概述 | 第16-18页 |
| ·稀土纳米材料的概述 | 第18页 |
| ·立题依据和研究内容 | 第18-19页 |
| ·立题依据 | 第18-19页 |
| ·研究内容 | 第19页 |
| 参考文献 | 第19-25页 |
| 第二章 阳极氧化铝模板的制备及其光学性质研究 | 第25-47页 |
| ·引言 | 第25-26页 |
| ·多孔有序氧化铝模板的结构与制备方法 | 第26-29页 |
| ·多孔有序氧化铝模板的结构 | 第26-28页 |
| ·多孔有序氧化铝模板的制备方法 | 第28-29页 |
| ·实验部分 | 第29-31页 |
| ·实验试剂和仪器 | 第29页 |
| ·氧化铝模板的制备过程 | 第29-31页 |
| ·氧化铝模板的表征 | 第31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-42页 |
| ·形貌表征 | 第31-32页 |
| ·结构分析 | 第32-33页 |
| ·阳极氧化法制备氧化铝模板机理及反应条件的影响 | 第33-36页 |
| ·光学性质的分析 | 第36-42页 |
| ·本章小结 | 第42页 |
| 参考文献 | 第42-47页 |
| 第三章 负压沉积法制备Nd_xNi_(1-x)O_y纳米管阵列及其性能表征 | 第47-58页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·实验部分 | 第48-50页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第48页 |
| ·Nd_xNi_(1-x)O_y纳米管阵列制备 | 第48-49页 |
| ·Nd_xNi_(1-x)O_y纳米管阵列的表征 | 第49-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-54页 |
| ·Nd_xNi_(1-x)O_y纳米管阵列的形貌表征 | 第50-51页 |
| ·Nd_xNi_(1-x)O_y纳米管阵列的结构及组成分析 | 第51-53页 |
| ·Nd_xNi_(1-x)O_y纳米管阵列的磁性能表征 | 第53-54页 |
| ·Nd_xNi_(1-x)O_y纳米管的光学性能 | 第54页 |
| ·结论 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 第四章 简单溶剂热法合成氧化钐纳米线及其性能表征 | 第58-71页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·实验部分 | 第59-61页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第59-60页 |
| ·氧化钐纳米线的制备 | 第60页 |
| ·氧化钐纳米线的表征 | 第60-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-68页 |
| ·氧化钐纳米线的表征 | 第61-65页 |
| ·反应条件对制备的纳米线形貌的影响 | 第65-67页 |
| ·氧化钐纳米线生长及机制的探讨 | 第67-68页 |
| ·小结 | 第68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 附录 | 第72-73页 |
