| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| ·研究背景 | 第12-13页 |
| ·无机发光材料的研究与应用 | 第13-15页 |
| ·AlN 的基本性质 | 第15-16页 |
| ·AlN 发光性能研究现状 | 第16-20页 |
| ·发光AlN 薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| ·发光AlN 薄膜的衬底 | 第17-18页 |
| ·发光AlN 薄膜的晶体结构 | 第18-19页 |
| ·发光AlN 薄膜的三基色及白光研究现状 | 第19页 |
| ·热处理对发光AlN 薄膜的影响 | 第19-20页 |
| ·常用发光理论综述 | 第20-27页 |
| ·晶体场理论 | 第20-23页 |
| ·荧光力学理论 | 第23-25页 |
| ·位形坐标模型 | 第25-26页 |
| ·能量传递学说 | 第26页 |
| ·空穴转移模型 | 第26-27页 |
| ·其它发光理论 | 第27页 |
| ·研究目的、内容及创新之处 | 第27-29页 |
| ·本课题研究目的 | 第27页 |
| ·本课题研究内容 | 第27-28页 |
| ·本课题创新之处 | 第28-29页 |
| 第二章 实验设备及性能测试仪器 | 第29-35页 |
| ·AIP-01 型多弧离子镀膜机 | 第29-31页 |
| ·90°弯管磁过滤装置 | 第31-32页 |
| ·超声波清洗设备 | 第32页 |
| ·Philips X’Pert 型小角 X 射线衍射仪 | 第32-33页 |
| ·Kratos AXis Ultra（DLD）多功能光电子能谱分析仪 | 第33-34页 |
| ·定性分析 | 第33页 |
| ·定量分析 | 第33页 |
| ·化学位移 | 第33页 |
| ·深剖分析 | 第33-34页 |
| ·LEO-1530VP 型场发射扫描电镜（FE-SEM） | 第34页 |
| ·组合式荧光寿命与稳态荧光光谱仪和PLM-100 荧光光谱仪 | 第34页 |
| ·4200 Hall 测试仪 | 第34页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第34-35页 |
| 第三章 过滤电弧离子镀制备AlN 薄膜和AlN:Cr 薄膜及其发光性能研究 | 第35-52页 |
| ·过滤电弧离子镀非掺杂AlN 膜及其发光性能的研究 | 第35-40页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·试验过程和试验现象 | 第35-37页 |
| ·挡板电弧离子镀非掺杂AlN 膜的结构分析 | 第37-38页 |
| ·挡板电弧离子镀非掺杂AlN 膜的表面粗糙度分析 | 第38页 |
| ·靶基距对挡板电弧离子镀非掺杂AlN 膜结构的影响 | 第38-39页 |
| ·挡板电弧离子镀非掺杂AlN 膜的发光性能研究 | 第39-40页 |
| ·过滤电弧离子镀AlN:Cr 薄膜及其发光性能的研究 | 第40-50页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·磁过滤电弧离子镀Cr 掺杂AlN 薄膜的制备 | 第41-43页 |
| ·磁过滤电弧离子镀Cr 掺杂AlN 薄膜结构分析 | 第43-44页 |
| ·磁过滤电弧离子镀Cr 掺杂AlN 薄膜成分分析 | 第44-47页 |
| ·磁过滤电弧离子镀Cr 掺杂AlN 薄膜光致发光图谱分析 | 第47-48页 |
| ·磁过滤电弧离子镀Cr 掺杂AlN 薄膜膜厚测量及霍尔效应研究 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 过滤电弧离子镀制备AlN:Cu 薄膜和AlN:Cr,Cu 双层膜及其发光性能研究 | 第52-75页 |
| ·过滤电弧离子镀制备AlN:Cu 薄膜及其发光性能研究 | 第52-68页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·挡板电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜 | 第52-60页 |
| ·挡板电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜的制备 | 第53页 |
| ·挡板电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜XRD 图谱分析 | 第53-54页 |
| ·挡板电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜XPS 图谱分析 | 第54-57页 |
| ·挡板电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜光致发光图谱分析 | 第57-59页 |
| ·挡板电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜膜厚测量及霍尔效应研究 | 第59-60页 |
| ·磁过滤电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜 | 第60-68页 |
| ·磁过滤电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜的制备 | 第60页 |
| ·磁过滤电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜结构分析 | 第60-61页 |
| ·磁过滤电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜光致发光性能分析 | 第61-62页 |
| ·基底对磁过滤电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜发光性能影响 | 第62-65页 |
| ·偏压对磁过滤电弧离子镀Cu 掺杂AlN 薄膜发光性能影响 | 第65-68页 |
| ·过滤电弧离子镀制备AlN:Cr,Cu 双层膜及其发光性能研究 | 第68-73页 |
| ·引言 | 第68-69页 |
| ·磁过滤电弧离子镀AlN:Cr,Cu 双层膜的制备 | 第69-70页 |
| ·磁过滤电弧离子镀AlN: Cr,Cu 双层膜X 射线衍射分析 | 第70-72页 |
| ·磁过滤电弧离子镀AlN: Cr,Cu 双层膜光致发光分析 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 结论与展望 | 第75-78页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
