| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·铝及其合金表面处理工艺概述 | 第12-16页 |
| ·电镀工艺 | 第12-13页 |
| ·表面热喷涂工艺 | 第13-14页 |
| ·气相沉积工艺 | 第14-15页 |
| ·表面涂装工艺 | 第15页 |
| ·化学转化膜工艺 | 第15-16页 |
| ·铝的化学氧化工艺 | 第16-17页 |
| ·铝的天然氧化膜 | 第16-17页 |
| ·铝的化学氧工艺原理 | 第17页 |
| ·阳极氧化处理工艺 | 第17-19页 |
| ·阳极氧化膜的形成与生长 | 第17-19页 |
| ·阳极氧化膜层的特点 | 第19页 |
| ·微弧氧化表面处理工艺 | 第19-26页 |
| ·微弧氧化工艺机理 | 第20-22页 |
| ·微弧氧化成膜过程 | 第22-24页 |
| ·微弧氧化工艺参数影响情况 | 第24-25页 |
| ·微弧氧化技术的特点 | 第25-26页 |
| ·微弧氧化技术的应用前景 | 第26页 |
| ·正交试验法 | 第26-27页 |
| ·正交试验设计的基本原理 | 第26-27页 |
| ·正交试验设计的基本方法 | 第27页 |
| ·本研究课题的目的和意义 | 第27-29页 |
| ·本研究课题的目的 | 第27-28页 |
| ·研究的意义 | 第28-29页 |
| 第二章 试验装置及试样制备 | 第29-33页 |
| ·微弧氧化装置 | 第29-30页 |
| ·试验仪器及测试装置 | 第30-31页 |
| ·试验铝合金材料试样制备 | 第31-33页 |
| ·试样选材 | 第31页 |
| ·试样制备及预处理 | 第31-33页 |
| 第三章 微弧氧化工艺试验及结果 | 第33-57页 |
| ·正交试验设计 | 第33-36页 |
| ·试验因素与指标的选取 | 第33-34页 |
| ·选取正交表及试验安排 | 第34-36页 |
| ·工艺试验内容 | 第36页 |
| ·第一组试验(无交互作用) | 第36页 |
| ·第二组试验(含Na2Si03与微弧氧化电压交互作用) | 第36页 |
| ·试验现象观察与结果 | 第36-39页 |
| ·微弧氧化试验现象 | 第37页 |
| ·第一组试验数据 | 第37-38页 |
| ·第二组试验数据 | 第38-39页 |
| ·各因素对微弧氧化试验的影响 | 第39-57页 |
| ·Na_2SiO_3浓度对微弧氧化膜层生长的影响 | 第39-44页 |
| ·KOH浓度对微弧氧化膜层生长的影响 | 第44-47页 |
| ·H_3B_O3浓度对微弧氧化膜层生长的影响 | 第47-49页 |
| ·H_2O_2浓度对微弧氧化膜层生长的影响 | 第49-51页 |
| ·微弧氧化电压对微弧氧化膜层生长的影响 | 第51-53页 |
| ·微弧氧化电压与Na_2SiO_3浓度交互作用对微弧氧化膜层生长的影响 | 第53-57页 |
| 第四章 最优化分析 | 第57-64页 |
| ·综合平衡分析法 | 第57-59页 |
| ·综合平衡法 | 第57-59页 |
| ·最佳工艺方案 | 第59页 |
| ·方差分析法 | 第59-63页 |
| ·方差分析 | 第60-62页 |
| ·交互作用分析 | 第62-63页 |
| ·应用方差分析法的最佳方案的选取 | 第63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第五章 微弧氧化膜性能测试及微观形貌分析 | 第64-69页 |
| ·微弧氧化膜厚度的测量 | 第64页 |
| ·微弧氧化膜硬度的测量 | 第64-65页 |
| ·耐腐蚀性试验 | 第65-66页 |
| ·抗热震性试验 | 第66页 |
| ·陶瓷氧化膜的生长过程 | 第66-69页 |
| 第六章 结论与存在的问题 | 第69-71页 |
| ·结论 | 第69页 |
| ·本研究中存在的问题 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第75页 |