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聚偏氟乙烯—四氧化三铁超滤膜的研究

摘要第1-5页
Abstract第5-6页
目录第6-8页
第1章 引言第8-18页
   ·超滤技术第8-11页
     ·超滤的原理第8页
     ·超滤膜的分类第8-9页
     ·超滤膜制备工艺第9-10页
     ·有机超滤膜的研究现状及存在的问题第10-11页
   ·聚偏氟乙烯超滤膜的研究现状第11-14页
     ·聚偏氟乙烯的特点第11页
     ·聚偏氟乙烯相转化膜制备工艺第11-12页
     ·聚偏氟乙烯膜的亲水改性第12-14页
   ·有机-无机杂化膜的研究现状第14-16页
     ·有机-无机膜的制备第15页
     ·无机粒子对有机-无机膜的影响第15-16页
   ·研究目的、意义和方法第16-18页
     ·选题思路第16-17页
     ·研究目的第17页
     ·研究意义第17页
     ·研究方法第17-18页
第2章 实验部分第18-23页
   ·实验材料与药品第18页
   ·实验方法第18-23页
     ·膜的制备第19-20页
     ·膜的超滤性能与结构表征第20-22页
     ·其它性能与参数的测定第22-23页
第3章 PVDF-Fe_3O_4未磁化膜的研究第23-36页
   ·Fe_3O_4含量对PVDF-Fe_3O_4未磁化膜的影响第23-32页
     ·Fe_3O_4含量对未磁化膜超滤性能和断面结构的影响第23-28页
     ·Fe_3O_4含量对PVDF-Fe_3O_4未磁化膜强度的影响第28-32页
   ·PVDF浓度对PVDF-Fe_3O_4未磁化膜的影响第32-35页
   ·本章小结第35-36页
第4章 水平磁场下制备PVDF-Fe_3O_4磁化膜的研究第36-52页
   ·Fe_3O_4含量对PVDF-Fe_3O_4磁化膜的影响第36-48页
     ·Fe_3O_4含量对磁化膜超滤性能和断面结构的影响第36-45页
     ·Fe_3O_4含量对PVDF-Fe_3O_4磁化膜强度的影响第45-48页
   ·PVDF浓度对PVDF-Fe_3O_4磁化膜的影响第48-50页
   ·本章小结第50-52页
第5章 有/无磁场下制膜对PVDF-Fe_3O_4超滤膜的影响第52-60页
   ·有/无磁场下制膜对超滤性能和断面结构的影响第52-56页
   ·有/无磁场下制膜对其它性能与参数的影响第56-58页
     ·有/无磁场下制膜对接触角的影响第56-57页
     ·有/无磁场下制膜对红外光谱的影响第57-58页
     ·水平磁场下制膜对Tg的影响第58页
   ·本章小结第58-60页
第6章 结论与展望第60-63页
   ·结论第60-61页
   ·展望第61-63页
参考文献第63-67页
致谢第67-68页
硕士期间参与的课题、发表的文章及取得的成果第68页

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