摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第11-19页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 石墨烯的基本结构 | 第12-14页 |
1.3 石墨烯的性质 | 第14-15页 |
1.3.1 电学性能 | 第14页 |
1.3.2 力学性能 | 第14页 |
1.3.3 热学性能 | 第14页 |
1.3.4 光学性能 | 第14-15页 |
1.3.5 超大的比表面积 | 第15页 |
1.4 石墨烯的主要制备方法 | 第15-17页 |
1.4.1 其他制备方法 | 第15页 |
1.4.2 化学气相沉积法制备石墨烯的研究进展 | 第15-17页 |
1.5 研究意义和内容 | 第17-19页 |
2 实验研究 | 第19-30页 |
2.1 实验材料及设备 | 第19-21页 |
2.1.1 实验材料 | 第19页 |
2.1.2 实验仪器与设备 | 第19-21页 |
2.2 实验方案 | 第21页 |
2.3 石墨烯的制备方法 | 第21-23页 |
2.4 石墨烯的转移 | 第23-24页 |
2.5 表征石墨烯的典型方法和性能测试手段 | 第24-30页 |
2.5.1 拉曼光谱分析(Raman spectra) | 第24-25页 |
2.5.2 扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM) | 第25-26页 |
2.5.3 透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM) | 第26页 |
2.5.4 原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM) | 第26页 |
2.5.5 X射线衍射分析(X-Ray Diffraction,XRD) | 第26-27页 |
2.5.6 电化学测试 | 第27页 |
2.5.7 盐雾试验 | 第27-28页 |
2.5.8 摩擦系数测试 | 第28-29页 |
2.5.9 纳米压痕测试 | 第29-30页 |
3 在铜基底上制备石墨烯薄膜及表征分析 | 第30-45页 |
3.1 生长温度对石墨烯薄膜制备的影响 | 第30-34页 |
3.1.1 不同生长温度条件下沉积石墨烯薄膜的Raman光谱 | 第31-32页 |
3.1.2 不同生长温度条件下沉积石墨烯薄膜的表面形貌 | 第32-34页 |
3.2 反应压强对石墨烯薄膜制备的影响 | 第34-35页 |
3.3 气体流量比对石墨烯薄膜制备的影响 | 第35-38页 |
3.3.1 不同气体流量比条件下沉积石墨烯薄膜的Raman光谱 | 第36-37页 |
3.3.2 不同气体流量比条件下沉积石墨烯薄膜的表面形貌 | 第37-38页 |
3.4 生长时间对石墨烯薄膜制备的影响 | 第38-39页 |
3.5 结合多种表征方法分析 | 第39-43页 |
3.6 本章小结 | 第43-45页 |
4 薄膜样品的抗腐蚀性能研究 | 第45-60页 |
4.1 引言 | 第45页 |
4.2 利用电化学测试研究样品的抗腐蚀性能 | 第45-51页 |
4.2.1 实验材料及样品表面形貌分析 | 第45-48页 |
4.2.2 极化曲线 | 第48-51页 |
4.3 利用盐雾试验研究样品的抗腐蚀性能 | 第51-59页 |
4.3.1 腐蚀参数设定 | 第51页 |
4.3.2 盐雾试验过程 | 第51-52页 |
4.3.3 盐雾试验结果 | 第52-56页 |
4.3.4 腐蚀试样表面形貌分析 | 第56-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-60页 |
5 薄膜样品的力学性能研究 | 第60-66页 |
5.1 引言 | 第60页 |
5.2 摩擦性能研究 | 第60-64页 |
5.2.1 试验设备及测试参数 | 第60页 |
5.2.2 正交试验结果与分析 | 第60-61页 |
5.2.3 试样的单因素实验结果与分析 | 第61-64页 |
5.3 弹性模量与硬度的研究 | 第64-65页 |
5.4 本章小结 | 第65-66页 |
6 结论与展望 | 第66-68页 |
6.1 结论 | 第66-67页 |
6.2 创新点 | 第67页 |
6.3 展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-72页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第72-73页 |
致谢 | 第73页 |