| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 前言 | 第10-24页 |
| 1.1 我国水资源现状 | 第10页 |
| 1.2 染料行业的现状研究 | 第10-13页 |
| 1.2.1 印染废水的来源及性质 | 第11-12页 |
| 1.2.2 染料的分类 | 第12页 |
| 1.2.3 印染废水特点及危害 | 第12-13页 |
| 1.3 印染废水处理方法 | 第13-22页 |
| 1.3.1 物理法 | 第13-15页 |
| 1.3.2 化学法 | 第15-17页 |
| 1.3.3 生物法 | 第17-19页 |
| 1.3.4 高级氧化技术 | 第19-21页 |
| 1.3.5 印染废水处理技术的发展趋势 | 第21-22页 |
| 1.4 蛭石 | 第22-23页 |
| 1.4.1 蛭石的性质 | 第22页 |
| 1.4.2 蛭石在水处理中的应用 | 第22-23页 |
| 1.5 本课题的研究内容及意义 | 第23-24页 |
| 2 实验材料与方法 | 第24-29页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第24页 |
| 2.1.2 仪器设备 | 第24-25页 |
| 2.2 催化剂的表征方法 | 第25-26页 |
| 2.2.1 X射线荧光光谱分析(XRF) | 第25页 |
| 2.2.2 BET表征 | 第25页 |
| 2.2.3 激光粒度分析仪(LPSA) | 第25页 |
| 2.2.4 X射线分析(XRD) | 第25页 |
| 2.2.5 原子吸收分光光度计 | 第25-26页 |
| 2.3 实验方法 | 第26页 |
| 2.4 分析方法 | 第26-29页 |
| 2.4.1 紫外—可见分光光度法测定活性黄X-R的浓度 | 第26-27页 |
| 2.4.2 TOC的测定 | 第27-28页 |
| 2.4.3 反应动力学研究 | 第28-29页 |
| 3 蛭石类Fenton氧化降解活性黄X-R的研究 | 第29-42页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 蛭石催化剂的性能表征 | 第29-32页 |
| 3.2.1 XRF分析 | 第29页 |
| 3.2.2 蛭石粒径分析 | 第29-30页 |
| 3.2.3 粉碎蛭石的扫描电镜图谱 | 第30-31页 |
| 3.2.4 XRD图谱分析 | 第31-32页 |
| 3.3 影响蛭石+H_2O_2体系催化效果的因素 | 第32-41页 |
| 3.3.1 蛭石粒径的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.2 蛭石投加量的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.3 初始pH的影响 | 第35-37页 |
| 3.3.4 H_2O_2用量的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.5 活性黄X-R初始浓度的影响及其动力学分析 | 第38-40页 |
| 3.3.6 蛭石催化剂的长期稳定性 | 第40-41页 |
| 3.4 小结 | 第41-42页 |
| 4 增强蛭石类芬顿降解活性黄X-R的研究 | 第42-55页 |
| 4.1 外加紫外光源 | 第42-44页 |
| 4.1.1 不同体系对活性黄X-R降解效果的影响 | 第42-43页 |
| 4.1.2 不同pH下UV+蛭石类芬顿的降解效果 | 第43-44页 |
| 4.1.3 外加光源前后X-R去除率及TOC去除率的比较 | 第44页 |
| 4.2 添加还原剂 | 第44-49页 |
| 4.2.1 不同还原剂对蛭石类Fenton体系的影响 | 第44-45页 |
| 4.2.2 还原剂的不同投加浓度对蛭石类Fenton体系的影响 | 第45-48页 |
| 4.2.3 不同pH下羟胺+蛭石类芬顿降解效果的表现 | 第48-49页 |
| 4.3 蛭石酸改性 | 第49-53页 |
| 4.3.1 实验步骤 | 第49-50页 |
| 4.3.2 结果与讨论 | 第50-51页 |
| 4.3.3 酸改性蛭石类Fenton反应 | 第51-53页 |
| 4.4 小结 | 第53-55页 |
| 5 活性黄X-R的降解过程的探究 | 第55-57页 |
| 5.1 蛭石类Fenton降解活性黄X-R的UV-Vis图谱 | 第55页 |
| 5.2 蛭石类Fenton体系TOC分析 | 第55-56页 |
| 5.3 小结 | 第56-57页 |
| 6 结论 | 第57-59页 |
| 6.1 全文总结 | 第57-58页 |
| 6.2 论文创新点 | 第58页 |
| 6.3 论文的不足之处 | 第58-59页 |
| 7 展望 | 第59-60页 |
| 8 参考文献 | 第60-70页 |
| 9 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第70-71页 |
| 10 致谢 | 第71页 |
