| 提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-51页 |
| 第一节 多孔材料概述 | 第8-25页 |
| ·微孔分子筛材料 | 第9-14页 |
| ·介孔分子筛材料 | 第14-24页 |
| ·大孔材料 | 第24-25页 |
| 第二节 无机‐有机杂化介孔硅材料及其的应用 | 第25-29页 |
| ·表面修饰法（grafting） | 第25-27页 |
| ·共聚法（co‐condensation） | 第27-29页 |
| 第三节 多级孔材料的概述 | 第29-34页 |
| ·多级孔材料的简单介绍 | 第29-30页 |
| ·微介孔材料的合成方法 | 第30-34页 |
| 第四节 本课题选题的目的、意义和主要结果 | 第34-36页 |
| ·本课题选题的目的和意义 | 第34-36页 |
| ·本课题取得的主要成果 | 第36页 |
| 第五节 本文所使用的仪器和表征方法 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-51页 |
| 第二章 多级孔的SAPO‐34 分子筛的合成与表征 | 第51-74页 |
| 第一节 引言 | 第51-54页 |
| 第二节 实验部分 | 第54-58页 |
| ·化学试剂 | 第54页 |
| ·实验条件与合成方法 | 第54-58页 |
| 第三节 实验结果与讨论 | 第58-67页 |
| ·X 射线粉末衍射 （XRD） | 第58-59页 |
| ·红外光谱 （FT‐IR） 分析 | 第59-60页 |
| ·扫描电子显微镜 （SEM） 表征 | 第60页 |
| ·氮气 （N_2） 吸附/脱附的表征 | 第60-61页 |
| ·透射电子显微镜 （TEM） 表征 | 第61-62页 |
| ·氨气程序升温脱附 （NH_3‐TPD） 表征 | 第62-63页 |
| ·热失重 （TGA） 分析 | 第63-66页 |
| ·~(29)Si NMR 表征 | 第66-67页 |
| 第四节 本章小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 第三章 骨架含苯胺齐聚物的电活性材料的合成与表征 | 第74-96页 |
| 第一节 引言 | 第74-77页 |
| 第二节 本章所使用的试剂 | 第77-80页 |
| ·市售试剂 | 第77-78页 |
| ·含苯胺齐聚物有机硅的合成 | 第78-80页 |
| 第三节 实验结果与讨论 | 第80-92页 |
| ·溶剂挥发法合成纯有机骨架的电活性材料 | 第80-86页 |
| ·溶剂热下合成无机‐有机骨架的电活性材料: | 第86-92页 |
| 第四节 本章小结 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-96页 |
| 第四章 微波辅助催化氧化法脱除介孔材料模板剂 | 第96-126页 |
| 第一节 引言 | 第96-100页 |
| 第二节 实验部分 | 第100-102页 |
| ·化学试剂 | 第100页 |
| ·介孔材料的选择及合成方法 | 第100-101页 |
| ·模板剂去除过程 | 第101-102页 |
| 第三节 介孔硅材料SBA‐15 模板剂脱除的研究 | 第102-111页 |
| ·X 射线粉末衍射 （XRD） | 第103页 |
| ·氮气 （N2） 吸附/脱附的表征 | 第103-106页 |
| ·红外光谱 （FT‐IR） 分析 | 第106-108页 |
| ·扫描电子显微镜 （SEM） 表征 | 第108页 |
| ·透射电子显微镜 （TEM） 表征 | 第108-109页 |
| ·~(29)Si NMR 表征 | 第109-110页 |
| ·热失重 （TGA） 分析 | 第110-111页 |
| ·小结 | 第111页 |
| 第四节 介孔硅材料MCM‐41 模板剂脱除的研究 | 第111-118页 |
| ·X 射线粉末衍射（XRD） | 第111-112页 |
| ·红外光谱 （FT‐IR） 分析 | 第112-113页 |
| ·氮气（N_2）吸附/脱附的表征 | 第113-115页 |
| ·~(29)Si NMR 表征 | 第115-116页 |
| ·热失重 （TGA） 分析 | 第116-118页 |
| ·小结 | 第118页 |
| 第五节 两种介孔硅材料模板剂脱除机理的研究 | 第118-120页 |
| 第六节 本章小结 | 第120-121页 |
| 参考文献 | 第121-126页 |
| 致谢 | 第126-127页 |
| 作者简历 | 第127页 |
| 发表或接收的文章 | 第127-129页 |
| 摘要 | 第129-132页 |
| Abstract | 第132-134页 |