| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-33页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 非甾体抗炎药的发展 | 第12-14页 |
| 1.3 非甾体抗炎药的作用机制 | 第14-16页 |
| 1.4 二芳基类NSAIDS | 第16-18页 |
| 1.5 药物多晶型 | 第18-24页 |
| 1.5.1 多晶型现象 | 第18-19页 |
| 1.5.2 药物多晶型的研究意义 | 第19-21页 |
| 1.5.3 晶体鉴定的常用方法 | 第21-24页 |
| 1.5.3.1 X-射线衍射法 | 第21-22页 |
| 1.5.3.2 热分析法 | 第22-23页 |
| 1.5.3.3 光谱法与核磁共振法 | 第23-24页 |
| 1.5.3.4 偏光显微镜法 | 第24页 |
| 1.6 研究课题介绍 | 第24-33页 |
| 1.6.1 设计思路 | 第24-28页 |
| 1.6.2 主要工作 | 第28-30页 |
| 1.6.3 研究进展 | 第30-33页 |
| 第二章 实验部分 | 第33-45页 |
| 2.1 原料与试剂 | 第33-34页 |
| 2.2 仪器与设备 | 第34-35页 |
| 2.3 化合物的合成 | 第35-42页 |
| 2.3.1 氯尼辛的合成 | 第35-36页 |
| 2.3.2 2-(2,6-二甲基-苯胺基)烟酸(1)的合成 | 第36页 |
| 2.3.3 2-(2,6-二甲基-苯胺基)苯甲酸(2)的合成 | 第36-37页 |
| 2.3.4 3-甲基-2-苯胺基苯甲酸(3)的合成 | 第37-39页 |
| 2.3.5 4-甲基-2-苯胺基苯甲酸(4)的合成 | 第39-40页 |
| 2.3.6 5-甲基-2-苯胺基苯甲酸(5)的合成 | 第40-41页 |
| 2.3.7 6-甲基-2-苯胺基苯甲酸(6)的合成 | 第41-42页 |
| 2.4 晶体生长 | 第42-43页 |
| 2.4.1 氯尼辛溶剂合物的生长 | 第42页 |
| 2.4.2 无溶剂晶体生长 | 第42-43页 |
| 2.5 晶体结构测定 | 第43页 |
| 2.6 晶体的粉末X-射线衍射(PXRD) | 第43页 |
| 2.7 热力学表征 | 第43-44页 |
| 2.8 光谱学表征 | 第44-45页 |
| 第三章 结构表征及晶体多型研究 | 第45-81页 |
| 3.1 化合物的结构表征 | 第45-57页 |
| 3.1.1 氯尼辛的1H NMR表征 | 第45-46页 |
| 3.1.2 2-(2,6-二甲基-苯胺基)烟酸(1)的1H NMR表征 | 第46-47页 |
| 3.1.3 2-(2,6-二甲基-苯胺基)苯甲酸酸(2)的1H NMR表征 | 第47-49页 |
| 3.1.4 3-甲基-2-苯胺基苯甲酸(3)的1H NMR表征 | 第49-50页 |
| 3.1.5 4-甲基-2-苯胺基苯甲酸(4)的1H NMR表征 | 第50-52页 |
| 3.1.6 5-甲基-2-苯胺基苯甲酸(5)的1H NMR表征 | 第52-53页 |
| 3.1.7 6-甲基-2-苯胺基苯甲酸(6)的1H NMR表征 | 第53-55页 |
| 3.1.8 氯尼辛的DMF溶剂合物的1H NMR表征 | 第55-56页 |
| 3.1.9 氯尼辛的DMA溶剂合物的1H NMR表征 | 第56-57页 |
| 3.2 晶体生长 | 第57-59页 |
| 3.2.1 晶体生长结果 | 第57-58页 |
| 3.2.2 晶体形貌 | 第58-59页 |
| 3.3 晶体结构解析 | 第59-68页 |
| 3.3.1 氯尼辛溶剂合物的晶体结构解析 | 第59-63页 |
| 3.3.2 化合物1-3 的晶体结构解析 | 第63-68页 |
| 3.3.2.1 化合物1 的晶体中分子堆积 | 第65-66页 |
| 3.3.2.2 化合物2 的晶体中分子堆积 | 第66-67页 |
| 3.3.2.3 化合物3 的晶体中分子堆积 | 第67-68页 |
| 3.4 热学表征及结果分析 | 第68-73页 |
| 3.4.1 氯尼辛溶剂合物的热学表征 | 第68-72页 |
| 3.4.2 化合物2 的热学表征 | 第72-73页 |
| 3.5 光谱表征及结果分析 | 第73-76页 |
| 3.6 理论计算 | 第76-81页 |
| 第四章 结论与展望 | 第81-85页 |
| 4.1 结论 | 第81-82页 |
| 4.2 展望 | 第82-85页 |
| 参考文献 | 第85-93页 |
| 附图 | 第93-101页 |
| 攻读硕士期间已发表论文 | 第101-103页 |
| 致谢 | 第103页 |
