HFCVD制备工艺对金刚石薄膜电特性的影响
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 金刚石的结构 | 第9-10页 |
| 1.2 金刚石的性质与应用 | 第10-12页 |
| 1.3 CVD金刚石薄膜控制掺杂 | 第12-15页 |
| 1.3.1 离子注入掺杂 | 第12页 |
| 1.3.2 生长过程掺杂 | 第12-15页 |
| 1.4 金刚石的研究现状及发展趋势 | 第15-16页 |
| 1.5 本文研究的内容 | 第16-17页 |
| 第二章 CVD金刚石制备工艺和表征方法 | 第17-24页 |
| 2.1 CVD金刚石薄膜制备方法 | 第17-19页 |
| 2.1.1 热丝CVD | 第17页 |
| 2.1.2 直流电弧等离子体喷射CVD | 第17-18页 |
| 2.1.3 微波等离子体CVD | 第18-19页 |
| 2.1.4 热阴极等离子CVD | 第19页 |
| 2.2 金刚石薄膜表征方法 | 第19-24页 |
| 2.2.1 原子力显微镜(AFM) | 第19-20页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第20-21页 |
| 2.2.3 X射线衍射仪(XRD) | 第21页 |
| 2.2.4 四探针测试仪 | 第21-23页 |
| 2.2.5 电化学工作站 | 第23-24页 |
| 第三章 HFCVD金刚石薄膜的制备 | 第24-30页 |
| 3.1 CVD金刚石合成机理 | 第24-25页 |
| 3.1.1 碳的P-T相图 | 第24页 |
| 3.1.2 化学泵模型 | 第24-25页 |
| 3.2 HFCVD设备介绍 | 第25-26页 |
| 3.3 HFCVD制备工艺 | 第26-29页 |
| 3.3.1 HFCVD基本原理 | 第26-27页 |
| 3.3.2 实验材料的选择 | 第27-28页 |
| 3.3.3 BDD薄膜制备 | 第28-29页 |
| 3.4 实验流程图 | 第29-30页 |
| 第四章 衬底温度、氢气流量对金刚石薄膜的影响 | 第30-42页 |
| 4.1 衬底温度对金刚石薄膜的影响 | 第30-36页 |
| 4.1.1 不同衬底温度下BDD薄膜形貌分析 | 第30-32页 |
| 4.1.2 不同衬底温度下BDD薄膜结构分析 | 第32-33页 |
| 4.1.3 不同衬底温度下BDD薄膜电特性分析 | 第33-36页 |
| 4.2 氢气流量对金刚石薄膜的影响 | 第36-41页 |
| 4.2.1 氢原子的产生 | 第36页 |
| 4.2.2 不同氢气流量下BDD薄膜形貌分析 | 第36-38页 |
| 4.2.3 不同氢气流量下BDD薄膜结构分析 | 第38-39页 |
| 4.2.4 不同氢气流量下BDD薄膜电特性分析 | 第39-41页 |
| 4.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 掺硼浓度、碳源流量对金刚石薄膜的影响 | 第42-54页 |
| 5.1 掺硼浓度对金刚石薄膜的影响 | 第42-47页 |
| 5.1.1 不同掺硼浓度下BDD薄膜形貌分析 | 第42-44页 |
| 5.1.2 不同掺硼浓度下BDD薄膜结构分析 | 第44页 |
| 5.1.3 不同掺硼浓度下BDD薄膜电特性分析 | 第44-46页 |
| 5.1.4 BDD电极在不同溶液中的电解特性 | 第46-47页 |
| 5.2 碳源流量对金刚石薄膜的影响 | 第47-51页 |
| 5.2.1 不同碳源流量下BDD薄膜形貌分析 | 第47-48页 |
| 5.2.2 不同碳源流量下BDD薄膜结构分析 | 第48-49页 |
| 5.2.3 不同碳源流量下BDD薄膜电特性分析 | 第49-50页 |
| 5.2.4 金刚石薄膜横截面分析 | 第50-51页 |
| 5.3 特殊金刚石晶型分析 | 第51-52页 |
| 5.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第六章 总结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读学位期间所取得的相关成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
