无机颜料细化工艺及其光谱性能研究
| 摘要 | 第10-11页 |
| ABSTRACT | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-24页 |
| 1.1 伪装涂料在现代战争中的应用 | 第13-14页 |
| 1.2 伪装涂料的发展现状 | 第14-18页 |
| 1.2.1 可见光和近红外伪装涂料 | 第14-15页 |
| 1.2.2 热红外伪装涂料 | 第15-16页 |
| 1.2.3 红外透明粘结剂 | 第16-18页 |
| 1.3 多波段兼容伪装原理 | 第18-20页 |
| 1.3.1 大气光谱辐射特性 | 第18-19页 |
| 1.3.2 背景的光谱反射特性 | 第19页 |
| 1.3.3 目标的热红外辐射特征 | 第19-20页 |
| 1.4 可见光-红外兼容伪装研究现状 | 第20-22页 |
| 1.4.1 可见光-红外兼容伪装涂料 | 第20-21页 |
| 1.4.2 可见光-红外兼容伪装材料不足 | 第21页 |
| 1.4.3 现有可见光-红外兼容伪装发展 | 第21-22页 |
| 1.5 课题研究的目的和内容 | 第22-24页 |
| 第二章 实验部分 | 第24-35页 |
| 2.1 实验原料与仪器 | 第24-25页 |
| 2.1.1 原材料 | 第24-25页 |
| 2.1.2 砂磨机 | 第25页 |
| 2.2 材料的表征 | 第25-29页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第25页 |
| 2.2.2 粒径及其分布测试 | 第25-26页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜技术(SEM) | 第26页 |
| 2.2.4 可见光、近红外反射和透射光谱测试 | 第26-27页 |
| 2.2.5 涂层遮盖力表征 | 第27-29页 |
| 2.2.6 红外反射和透射光谱测试 | 第29页 |
| 2.2.7 红外发射率计算 | 第29页 |
| 2.3 红外透明树脂的分析表征 | 第29-30页 |
| 2.3.1 粘结剂涂层制备 | 第29-30页 |
| 2.3.2 粘结剂红外光谱表征 | 第30页 |
| 2.4 颜料的分析表征 | 第30-31页 |
| 2.4.1 颜料涂层制备 | 第30-31页 |
| 2.4.2 颜料光谱表征 | 第31页 |
| 2.5 无机颜料细化工艺探索 | 第31-33页 |
| 2.5.1 颜料细化工艺路线 | 第31-32页 |
| 2.5.2 颜料细化工艺因素及参数确定 | 第32-33页 |
| 2.5.3 颜料细化工艺实验过程 | 第33页 |
| 2.6 细化颜料的涂层制备 | 第33-35页 |
| 2.6.1 工艺路线 | 第33-34页 |
| 2.6.2 涂料制备 | 第34页 |
| 2.6.3 涂层制备 | 第34页 |
| 2.6.4 涂层光谱表征 | 第34-35页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第35-69页 |
| 3.1 红外透明树脂的分析表征 | 第35-40页 |
| 3.1.1 树脂红外反射光谱及发射率分析 | 第35-39页 |
| 3.1.2 红外透明树脂的优选 | 第39-40页 |
| 3.2 颜料的分析表征 | 第40-42页 |
| 3.2.0 颜料的成分分析 | 第40页 |
| 3.2.1 颜料可见光、近红外反射光谱分析 | 第40-41页 |
| 3.2.2 颜料的红外反射光谱分析 | 第41-42页 |
| 3.3 无机颜料细化工艺 | 第42-52页 |
| 3.3.1 各个参数对细化工艺的影响 | 第42-48页 |
| 3.3.2 无机颜料粒径的可控制备 | 第48-52页 |
| 3.4 颜料粒径对涂层光谱的影响 | 第52-61页 |
| 3.4.1 颜料粒径对光学性能的影响 | 第52-54页 |
| 3.4.2 颜料粒径对红外性能的影响 | 第54-61页 |
| 3.5 颜料体积分数对涂层光谱的影响 | 第61-63页 |
| 3.5.1 颜料体积分数对光学性能的影响 | 第61-62页 |
| 3.5.2 颜料体积分数对红外性能的影响 | 第62-63页 |
| 3.6 涂层厚度对涂层光谱的影响 | 第63-69页 |
| 3.6.1 涂层厚度对光学性能的影响 | 第63-66页 |
| 3.6.2 涂层厚度对红外性能的影响 | 第66-69页 |
| 第四章 结论与展望 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第79页 |
