摘要 | 第4-7页 |
ABSTRACT | 第7-11页 |
创新点 | 第12-18页 |
引言 | 第18-20页 |
第1章 文献综述 | 第20-59页 |
1.1 催化裂解技术研究进展 | 第20-23页 |
1.1.1 烃类催化裂解制低碳烯烃研究背景 | 第20-21页 |
1.1.2 国外研究进展 | 第21-22页 |
1.1.3 国内研究进展 | 第22-23页 |
1.2 催化裂解催化剂研究 | 第23-35页 |
1.2.1 氧化物 | 第24-25页 |
1.2.2 分子筛 | 第25-33页 |
1.2.3 复合催化剂 | 第33-35页 |
1.3 催化裂解反应机理 | 第35-38页 |
1.3.1 自由基反应机理 | 第35-36页 |
1.3.2 碳正离子反应机理 | 第36-38页 |
1.3.3 自由基-碳正离子共同作用机理 | 第38页 |
1.4 二维分子筛研究 | 第38-52页 |
1.4.1 层状分子筛概述 | 第38-44页 |
1.4.2 纳米薄层MFI分子筛的合成 | 第44-49页 |
1.4.3 纳米薄层MFI分子筛的催化应用 | 第49-52页 |
1.5 分子筛生长修饰剂合成不同形貌分子筛 | 第52-56页 |
1.6 文献小结 | 第56-57页 |
1.7 本论文研究目的及内容 | 第57-59页 |
第2章 实验部分 | 第59-64页 |
2.1 主要的仪器设备和化学药品 | 第59-60页 |
2.1.1 化学药品和气体 | 第59-60页 |
2.1.2 仪器设备 | 第60页 |
2.2 催化剂表征方法 | 第60-62页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第60-61页 |
2.2.2 傅立叶红外吸收光谱(FT-IR)分析 | 第61页 |
2.2.3 拉曼光谱(Raman)分析 | 第61页 |
2.2.4 氮气吸脱附 | 第61页 |
2.2.5 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第61页 |
2.2.6 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第61页 |
2.2.7 光电子能谱(XPS)分析 | 第61页 |
2.2.8 电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES) | 第61页 |
2.2.9 高分辨固体核磁共振(MAS NMR) | 第61-62页 |
2.2.10 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第62页 |
2.2.11 热重分析(TG) | 第62页 |
2.2.12 吡啶吸附红外(Py-IR) | 第62页 |
2.3 催化裂解反应性能评价 | 第62-64页 |
2.3.1 催化活性评价方案 | 第62-63页 |
2.3.2 催化裂解催化剂活性分析方法 | 第63-64页 |
第3章 纳米薄层ZSM-5 分子筛催化剂的制备及催化性能研究 | 第64-85页 |
3.1 引言 | 第64-65页 |
3.2 催化剂制备 | 第65-66页 |
3.2.1 双子季铵盐表面活性剂C2266Br2的合成 | 第65页 |
3.2.2 纳米薄层ZSM-5 分子筛的合成 | 第65页 |
3.2.3 铵交换过程 | 第65-66页 |
3.3 催化剂表征与分析 | 第66-74页 |
3.3.1 XRD表征结果及分析 | 第66-67页 |
3.3.2 SEM表征结果及分析 | 第67页 |
3.3.3 TEM表征结果及分析 | 第67-68页 |
3.3.4 N_2-吸脱附表征结果及分析 | 第68-70页 |
3.3.5 NH_3-TPD表征结果及分析 | 第70-71页 |
3.3.6 Py-IR表征结果及分析 | 第71-73页 |
3.3.7 ~(27)Al MAS NMR表征结果及分析 | 第73-74页 |
3.4 催化裂解反应性能 | 第74-79页 |
3.4.1 正庚烷催化裂解反应性能 | 第74-78页 |
3.4.2 催化剂长周期稳定性考察 | 第78-79页 |
3.5 催化剂积碳研究 | 第79-83页 |
3.5.1 积碳定量分析 | 第79-80页 |
3.5.2 积碳在催化剂的分布情况 | 第80-81页 |
3.5.3 积碳形态分析 | 第81-83页 |
3.6 本章小结 | 第83-85页 |
第4章 晶种辅助合成纳米薄层ZSM-5 分子筛及其催化性能研究 | 第85-119页 |
4.1 引言 | 第85-86页 |
4.2 催化剂制备 | 第86-87页 |
4.2.1 晶种的合成 | 第86-87页 |
4.2.2 双子季铵盐表面活性剂C1866Br2的合成 | 第87页 |
4.2.3 纳米薄层ZSM-5 分子筛的合成 | 第87页 |
4.2.4 铵交换过程 | 第87页 |
4.3 催化剂表征结果及分析 | 第87-112页 |
4.3.1 晶化时间影响 | 第87-95页 |
4.3.2 晶化温度影响 | 第95-97页 |
4.3.3 H_2O/SiO_2影响 | 第97-99页 |
4.3.4 Na_2O/SiO_2影响 | 第99-101页 |
4.3.5 硅铝比影响 | 第101-103页 |
4.3.6 铝源影响 | 第103-105页 |
4.3.7 硅源影响 | 第105-112页 |
4.4 纳米薄层ZSM-5 分子筛的形成过程 | 第112-113页 |
4.5 正庚烷催化裂解反应性能 | 第113-118页 |
4.6 本章小结 | 第118-119页 |
第5章 醇类生长修饰剂调控制备多级孔纳米ZSM-5 分子筛聚集体及催化性能研究 | 第119-134页 |
5.1 引言 | 第119-120页 |
5.2 催化剂制备 | 第120-121页 |
5.2.1 晶种的合成 | 第120页 |
5.2.2 双子季铵盐表面活性剂C1866Br2的合成 | 第120页 |
5.2.3 醇类分子筛生长修饰剂合成多级孔纳米ZSM-5 分子筛聚集体 | 第120页 |
5.2.4 铵交换过程 | 第120-121页 |
5.3 催化剂表征结果及分析 | 第121-129页 |
5.3.1 XRD表征结果及分析 | 第121-122页 |
5.3.2 ~(27)Al MAS NMR表征结果及分析 | 第122-123页 |
5.3.3 SEM和TEM表征结果及分析 | 第123-124页 |
5.3.4 N_2-吸脱附表征结果及分析 | 第124-126页 |
5.3.5 NH_3-TPD表征结果及分析 | 第126-127页 |
5.3.6 Py-IR表征结果及分析 | 第127-128页 |
5.3.7 羟基-IR表征结果及分析 | 第128-129页 |
5.4 正庚烷催化裂解反应性能研究 | 第129-132页 |
5.5 本章小结 | 第132-134页 |
第6章 脂肪胺生长修饰剂调控制备多级孔纳米ZSM-5 分子筛聚集体及催化性能研究 | 第134-153页 |
6.1 引言 | 第134-135页 |
6.2 催化剂制备 | 第135页 |
6.2.1 晶种的合成 | 第135页 |
6.2.2 双子季铵盐表面活性剂C1866Br2的合成 | 第135页 |
6.2.3 脂肪胺类分子筛生长修饰剂合成多级孔纳米ZSM-5 分子筛聚集体 | 第135页 |
6.3 催化剂表征结果及分析 | 第135-145页 |
6.3.1 XRD表征结果及分析 | 第136-137页 |
6.3.2 ~(27)Al MAS NMR表征结果及分析 | 第137-138页 |
6.3.3 SEM表征结果及分析 | 第138-139页 |
6.3.4 TEM表征结果及分析 | 第139-140页 |
6.3.5 N_2-吸脱附表征结果及分析 | 第140-142页 |
6.3.6 NH_3-TPD表征结果及分析 | 第142-143页 |
6.3.7 Py-IR表征结果及分析 | 第143-144页 |
6.3.8 羟基-IR表征结果及分析 | 第144-145页 |
6.4 正庚烷催化裂解反应性能研究 | 第145-151页 |
6.5 本章小结 | 第151-153页 |
第7章 醇胺类生长修饰剂调控制备多级孔纳米ZSM-5 分子筛聚集体及催化性能研究 | 第153-169页 |
7.1 引言 | 第153-154页 |
7.2 催化剂制备 | 第154页 |
7.2.1 晶种的合成 | 第154页 |
7.2.2 双子季铵盐表面活性剂C1866Br2的合成 | 第154页 |
7.2.3 醇胺类生长修饰剂合成多级孔纳米ZSM-5 分子筛聚集体 | 第154页 |
7.3 催化剂表征结果及分析 | 第154-163页 |
7.3.1 XRD表征结果及分析 | 第154-155页 |
7.3.2 ~(27)AlMASNMR表征结果及分析 | 第155-156页 |
7.3.3 SEM&TEM表征结果及分析 | 第156-158页 |
7.3.4 N_2-吸脱附表征结果及分析 | 第158-160页 |
7.3.5 NH_3-TPD表征结果及分析 | 第160-161页 |
7.3.6 Py-IR表征结果及分析 | 第161-162页 |
7.3.7 羟基-IR表征结果及分析 | 第162-163页 |
7.4 正庚烷催化裂解反应性能研究 | 第163-167页 |
7.5 本章小结 | 第167-169页 |
第8章 结论 | 第169-172页 |
参考文献 | 第172-189页 |
附录A 正庚烷催化裂解反应数据表 | 第189-198页 |
致谢 | 第198-200页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文及研究成果 | 第200-202页 |
学位论文数据集 | 第202页 |