| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 研究目的及意义 | 第9页 |
| 1.2 分子印迹技术概述 | 第9-10页 |
| 1.2.1 分子印迹技术概述 | 第9-10页 |
| 1.2.2 分子印迹聚合物制备原理和过程 | 第10页 |
| 1.3 分子印迹技术分类 | 第10-12页 |
| 1.3.1 共价法 | 第11页 |
| 1.3.2 非共价法 | 第11-12页 |
| 1.3.3 半共价法 | 第12页 |
| 1.4 分子印迹聚合物的制备方法 | 第12-16页 |
| 1.4.1 包埋法 | 第12-14页 |
| 1.4.2 表面印迹法 | 第14-16页 |
| 1.5 分子印迹聚合物的应用 | 第16-19页 |
| 1.5.1 传感器 | 第16-17页 |
| 1.5.2 固相萃取 | 第17-18页 |
| 1.5.3 模拟酶催化 | 第18页 |
| 1.5.4 爆炸物检测 | 第18-19页 |
| 1.6 本课题的研究内容 | 第19-20页 |
| 2 沉淀聚合法制备TNT分子印迹微球及其应用 | 第20-31页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 实验部分 | 第20-21页 |
| 2.2.1 实验试剂与仪器 | 第20页 |
| 2.2.2 TNT分子印迹聚合物微球的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.3 聚合物吸附性能研究 | 第21页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第21-30页 |
| 2.3.1 沉淀聚合原理 | 第21-22页 |
| 2.3.2 TNT与AM相互作用表征 | 第22-23页 |
| 2.3.3 聚合物的红外表征 | 第23-24页 |
| 2.3.4 不同制备条件对印迹微球表面形貌的影响 | 第24-27页 |
| 2.3.5 聚合物的吸附性能 | 第27-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 3 基于改性二氧化硅表面修饰的TNT分子印迹聚合物的制备与应用 | 第31-43页 |
| 3.1 前言 | 第31页 |
| 3.2 实验部分 | 第31-33页 |
| 3.2.1 实验试剂与仪器 | 第31页 |
| 3.2.2 二氧化硅的合成 | 第31-32页 |
| 3.2.3 改性二氧化硅 | 第32页 |
| 3.2.4 分子印迹聚合物的制备 | 第32页 |
| 3.2.5 吸附实验 | 第32-33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-42页 |
| 3.3.1 聚合物制备 | 第33页 |
| 3.3.2 聚合物的表征 | 第33-36页 |
| 3.3.3 聚合物的吸附性能 | 第36-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 4 磁性TNT分子印迹聚合物的制备与应用 | 第43-54页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 实验部分 | 第43-45页 |
| 4.2.1 仪器与试剂 | 第43页 |
| 4.2.2 氨基改性四氧化三铁 | 第43-44页 |
| 4.2.3 Fe_3O_4表面分子印迹聚合物的合成 | 第44页 |
| 4.2.4 吸附实验 | 第44-45页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第45-53页 |
| 4.3.1 Fe3O4@MIPs的制备 | 第45页 |
| 4.3.2 磁性纳米粒子的表征 | 第45-49页 |
| 4.3.3 聚合物的吸附性能 | 第49-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 5 结论与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 结论 | 第54页 |
| 5.2 不足和展望 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 附录 | 第63页 |