摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第14-31页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第14-15页 |
1.2 GTAW技术的国内外研究现状 | 第15-19页 |
1.2.1 GTAW电源的国内外研究现状 | 第15-18页 |
1.2.2 材料GTAW焊接的国内外研究现状 | 第18-19页 |
1.3 MAO技术的国内外研究现状 | 第19-26页 |
1.3.1 MAO电源的国内外研究现状 | 第19-22页 |
1.3.2 材料MAO处理的国内外研究现状 | 第22-26页 |
1.4 集成电源的国内外研究现状 | 第26-28页 |
1.5 目前国内外研究中存在的问题分析 | 第28-30页 |
1.6 本文主要研究内容 | 第30-31页 |
第2章 GTAW与MAO集成的关键技术研究 | 第31-51页 |
2.1 引言 | 第31页 |
2.2 焊接与微弧氧化集成的必要性研究 | 第31-34页 |
2.2.1 焊接余温对在位微弧氧化起弧电压的影响 | 第31-33页 |
2.2.2 集成的必要性分析 | 第33-34页 |
2.3 高频斩波技术改善电流稳定性的研究 | 第34-40页 |
2.3.1 斩波频率对电流的影响 | 第34-36页 |
2.3.2 电感对电流的影响 | 第36-40页 |
2.4 EEMAO技术改善接头性能的研究 | 第40-47页 |
2.4.1 EEMAO过程分析 | 第40-43页 |
2.4.2 CeO_2对EEMAO时间-电压响应的影响 | 第43-46页 |
2.4.3 CeO_2对EEMAO膜层生长过程分析 | 第46-47页 |
2.5 GTAW与MAO工艺对电源要求的分析 | 第47-48页 |
2.6 GTAW与MAO负载特性 | 第48-50页 |
2.6.1 脉冲波形分析 | 第48页 |
2.6.2 负载特性分析 | 第48-50页 |
2.7 本章小结 | 第50-51页 |
第3章 GTAW与MAO集成电源装置的研制 | 第51-71页 |
3.1 引言 | 第51页 |
3.2 GTAW与MAO集成电源结构设计 | 第51-52页 |
3.3 主电路设计 | 第52-66页 |
3.3.1 Buck降压模块 | 第52-55页 |
3.3.2 全桥功率逆变模块 | 第55-59页 |
3.3.3 全桥功能逆变模块 | 第59-61页 |
3.3.4 200 kHz斩波模块 | 第61-66页 |
3.4 控制模块设计 | 第66-69页 |
3.4.1 控制模块硬件设计 | 第66-68页 |
3.4.2 控制模块软件设计 | 第68-69页 |
3.5 本章小结 | 第69-71页 |
第4章 GTAW与MAO集成电源控制策略的研究 | 第71-89页 |
4.1 引言 | 第71页 |
4.2 电流控制策略 | 第71-80页 |
4.2.1 电流FIR滤波 | 第71-74页 |
4.2.2 电流上升沿与下降沿控制策略 | 第74-76页 |
4.2.3 200 kHz斩波模块PID控制策略 | 第76-80页 |
4.3 弧压采样模式 | 第80-82页 |
4.4 两阶型控制策略 | 第82-86页 |
4.4.1 功率逆变部分 | 第82-83页 |
4.4.2 功能逆变部分 | 第83-86页 |
4.5 集成电源的研制 | 第86-87页 |
4.6 本章小结 | 第87-89页 |
第5章 GTAW与MAO集成电源焊接技术的试验研究 | 第89-107页 |
5.1 引言 | 第89页 |
5.2 实验设备与方法 | 第89-91页 |
5.2.1 实验方法 | 第89-90页 |
5.2.2 实验设备 | 第90-91页 |
5.3 集成电源与常规焊接电源性能对比 | 第91-98页 |
5.3.1 外特性对比 | 第91-92页 |
5.3.2 动特性对比 | 第92-95页 |
5.3.3 焊接实验对比 | 第95-98页 |
5.4 集成电源焊接实验研究 | 第98-106页 |
5.4.1 集成电源纯钛焊接的实验研究 | 第98-102页 |
5.4.2 集成电源铝合金焊接的实验研究 | 第102-104页 |
5.4.3 集成电源低碳钢焊接的实验研究 | 第104-106页 |
5.5 本章小结 | 第106-107页 |
第6章 GTAW与MAO集成电源微弧氧化技术的试验研究 | 第107-140页 |
6.1 引言 | 第107页 |
6.2 集成电源与常规微弧氧化电源的对比 | 第107-110页 |
6.2.1 阴极面积对MAO电流的影响 | 第108页 |
6.2.2 阴极与阳极距离对MAO电流的影响 | 第108-109页 |
6.2.3 集成电源在位MAO实验 | 第109-110页 |
6.3 集成电源在位MAO的研究 | 第110-114页 |
6.3.1 在位处理时间对MAO膜层的影响 | 第110-111页 |
6.3.2 在位MAO分析 | 第111-114页 |
6.4 集成电源GTAW接头MAO的实验研究 | 第114-123页 |
6.4.1 集成电源纯钛接头MAO的实验研究 | 第114-117页 |
6.4.2 集成电源铝合金接头MAO的实验研究 | 第117-121页 |
6.4.3 集成电源低碳钢MAO的实验研究 | 第121-122页 |
6.4.4 GTAW接头MAO分析 | 第122-123页 |
6.5 集成电源EEMAO技术的实验研究 | 第123-137页 |
6.5.1 EEMAO技术改善纯钛MAO膜层的实验研究 | 第123-132页 |
6.5.2 EEMAO技术改善铝合金MAO膜层的实验研究 | 第132-137页 |
6.6 集成电源在工程中的应用实例 | 第137-139页 |
6.7 本章小结 | 第139-140页 |
结论 | 第140-142页 |
参考文献 | 第142-151页 |
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第151-153页 |
致谢 | 第153-154页 |
个人简历 | 第154页 |