中文摘要 | 第10-14页 |
ABSTRACT | 第14-18页 |
符号说明 | 第19-20页 |
第一章 绪论 | 第20-33页 |
参考文献 | 第29-33页 |
第二章 基本理论与实验技术 | 第33-48页 |
2.1 光波导结构 | 第34-37页 |
2.2 闪烁响应 | 第37-40页 |
2.3 离子束技术 | 第40-47页 |
参考文献 | 第47-48页 |
第三章 离子束辐照制备光学晶体波导结构 | 第48-61页 |
3.1 5 MeV氧或硅离子辐照Nd:Li_6Y(BO_3)_3平面光波导 | 第49-53页 |
3.2 180 MeV氩离子辐照LiTaO_3平面光波导 | 第53-59页 |
参考文献 | 第59-61页 |
第四章 MeV单离子辐照下闪烁晶体的响应特性 | 第61-80页 |
4.1 单离子辐照下YAlO_3:Ce的闪烁响应 | 第62-69页 |
4.2 单离子激发下CaF_2:Eu与YAlO_3:Ce的非线性响应机制 | 第69-78页 |
参考文献 | 第78-80页 |
第五章 MeV离子辐照下SiC晶体的损伤与再结晶特性 | 第80-95页 |
5.1 低能硅离子辐照下SiC的损伤累积 | 第81-84页 |
5.2 高能离子辐照诱导预损伤SiC的再结晶效应 | 第84-93页 |
参考文献 | 第93-95页 |
第六章 MeV离子辐照下SrTiO_3晶体的损伤特性 | 第95-107页 |
6.1 低能金离子辐照下SrTiO_3的损伤累积 | 第96-101页 |
6.2 低能金离子辐照诱导SrTiO_3晶格不稳定性 | 第101-105页 |
参考文献 | 第105-107页 |
第七章 MeV离子辐照下LiNbO_3晶体的损伤特性 | 第107-120页 |
7.1 低能硅离子辐照下LiNbO_3的损伤累积 | 第108-114页 |
7.2 高能硅离子辐照下电子能损引起LiNbO_3的损伤行为 | 第114-119页 |
参考文献 | 第119-120页 |
第八章 总结 | 第120-125页 |
8.1 研究结果总结 | 第121-124页 |
8.2 主要创新点 | 第124-125页 |
致谢 | 第125-127页 |
攻读博士学位期间已发表及在投论文 | 第127-130页 |
附外文论文 | 第130-143页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第143页 |