| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-37页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 铬系催化剂 | 第12-16页 |
| 1.2.1 有机铬系催化剂 | 第13-14页 |
| 1.2.2 Phillips催化剂 | 第14-16页 |
| 1.3 Phillips催化剂活性中心价态的研究进展 | 第16-28页 |
| 1.3.1 Cr(Ⅴ)活性中心价态理论 | 第17页 |
| 1.3.2 Cr(Ⅳ)活性中心价态理论 | 第17页 |
| 1.3.3 Cr(Ⅲ)活性中心价态理论 | 第17-24页 |
| 1.3.4 Cr(Ⅱ )活性中心价态理论 | 第24-28页 |
| 1.3.5 Cr(Ⅰ)和Cr(0)活性中心价态理论 | 第28页 |
| 1.4 Phillips催化剂的改性 | 第28-35页 |
| 1.4.1 Phillips催化剂的氟改性 | 第29-30页 |
| 1.4.2 Phillips催化剂的钛改性 | 第30-31页 |
| 1.4.3 Phillips催化剂的钼改性 | 第31-33页 |
| 1.4.4 Phillips催化剂的钒改性 | 第33-34页 |
| 1.4.5 Phillips催化剂的铝改性 | 第34-35页 |
| 1.5 本文的提出、意义及研究内容 | 第35-37页 |
| 第2章 CH_2CH_2/CO/HCHO作为还原剂还原Phillips催化剂铬中心 | 第37-57页 |
| 2.1 引言 | 第37页 |
| 2.2 计算细节 | 第37-39页 |
| 2.2.1 计算模型的选取 | 第37-38页 |
| 2.2.2 计算方法 | 第38-39页 |
| 2.3 计算结果与讨论 | 第39-55页 |
| 2.3.1 CH_2CH_2作为还原剂对Phillips催化剂铬中心的还原 | 第39-48页 |
| 2.3.2 CO作为还原剂对Phillips催化剂铬中心的还原 | 第48-52页 |
| 2.3.3 HCHO作为还原剂对Phillips催化剂铬中心的还原 | 第52-54页 |
| 2.3.4 氧化还原反应中的自旋交叉 | 第54-55页 |
| 2.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 第3章 氟改性对C_H2CH_2/CO/HCHO还原Phillips催化剂铬中心的影响 | 第57-76页 |
| 3.1 引言 | 第57-59页 |
| 3.2 计算细节 | 第59-60页 |
| 3.2.1 计算模型 | 第59-60页 |
| 3.2.2 计算方法 | 第60页 |
| 3.3 计算结果与讨论 | 第60-74页 |
| 3.3.1 氟改性对CH_2CH_2还原Phillips催化剂Cr(Ⅵ)中心的影响 | 第60-69页 |
| 3.3.2 氟改性对CO还原Phillips催化剂Cr(Ⅵ)中心的影响 | 第69-72页 |
| 3.3.3 氟改性对HCHO还原Phillips催化剂Cr(Ⅵ)中心的影响 | 第72-74页 |
| 3.3.4 氟改性对考虑自旋交叉氧化还原反应路径影响 | 第74页 |
| 3.4 本章小结 | 第74-76页 |
| 第4章 结论与展望 | 第76-79页 |
| 4.1 本文主要结论 | 第76-77页 |
| 4.2 本文主要创新点 | 第77页 |
| 4.3 本文不足与展望 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 硕士期间论文发表情况 | 第88页 |
