| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 研究的背景和意义 | 第10页 |
| 1.2 国内外动态 | 第10-12页 |
| 1.3 电磁辐射控制的方法 | 第12-14页 |
| 1.4 本文的主要工作 | 第14-15页 |
| 第二章 电磁屏蔽原理 | 第15-31页 |
| 2.1 电磁波入射到介质平面 | 第15-18页 |
| 2.1.1 表面阻抗 | 第15-16页 |
| 2.1.2 反射系数 | 第16-18页 |
| 2.2 电磁场屏蔽和屏蔽理论 | 第18-26页 |
| 2.2.1 电磁场屏蔽 | 第18-19页 |
| 2.2.2 电磁屏蔽理论 | 第19-20页 |
| 2.2.3 屏蔽效能的定义 | 第20-21页 |
| 2.2.4 辐射源的近场和远场 | 第21-23页 |
| 2.2.5 近场电场源磁场源的屏蔽 | 第23-26页 |
| 2.3 传导干扰抑制 | 第26-29页 |
| 2.3.1 差共模电流 | 第26-27页 |
| 2.3.2 传导电流的抑制 | 第27-29页 |
| 2.4 传输线间串扰 | 第29-31页 |
| 第三章 耦合微带线测试系统 | 第31-43页 |
| 3.1 耦合微带线测试系统的设计 | 第31-38页 |
| 3.1.1 耦合微带线的设计 | 第31-35页 |
| 3.1.2 CPWG电磁探针的设计 | 第35-37页 |
| 3.1.3 三维移动平台的设计 | 第37页 |
| 3.1.4 转接头的设计 | 第37-38页 |
| 3.2 耦合微带线微波参数测试结果 | 第38-41页 |
| 3.3 测试系统的集成 | 第41页 |
| 3.4 测试算法 | 第41-43页 |
| 第四章 方同轴屏蔽测试系统 | 第43-63页 |
| 4.1 同轴线电磁场特性分析 | 第43-49页 |
| 4.1.1 电磁场分量 | 第43-45页 |
| 4.1.2 同轴传输线上的电压量、电流量和阻抗特性 | 第45-47页 |
| 4.1.3 同轴传输线的TM、TE模传输特性 | 第47-49页 |
| 4.2 方同轴传输线屏蔽测试装置 | 第49-57页 |
| 4.2.1 方同轴传输线的设计加工 | 第49-55页 |
| 4.2.2 方同轴传输线微波参数测试结果 | 第55-56页 |
| 4.2.3 测试系统的集成 | 第56页 |
| 4.2.4 测试算法 | 第56-57页 |
| 4.3 终端短路的方同轴传输线材料反射率装置 | 第57-63页 |
| 4.3.1 终端短路的方同轴传输线的设计加工 | 第57-60页 |
| 4.3.2 终端短路的方同轴传输线微波参数测试结果 | 第60-62页 |
| 4.3.3 测试系统的集成 | 第62页 |
| 4.3.4 测试算法 | 第62-63页 |
| 第五章 测试结果及分析 | 第63-72页 |
| 5.1 测试系统的电磁性能测试结果 | 第63-70页 |
| 5.1.1 耦合微带线的屏蔽测试结果 | 第63-66页 |
| 5.1.2 方同轴法屏蔽测试结果 | 第66-69页 |
| 5.1.3 终端短路的方同轴材料反射率测试结果 | 第69-70页 |
| 5.2 实验数据分析及误差的来源 | 第70-72页 |
| 第六章 总结 | 第72-74页 |
| 6.1 课题研究的主要内容和创新点 | 第72页 |
| 6.2 本文的不足及后期的工作展望 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第77页 |