摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-17页 |
1.1 选题背景 | 第11页 |
1.2 氧化锌薄膜的晶体结构和基本性质 | 第11-13页 |
1.2.1 氧化锌的晶体结构 | 第11-13页 |
1.2.2 氧化锌薄膜的基本性质 | 第13页 |
1.3 ZnO薄膜的制备方法 | 第13-16页 |
1.3.1 脉冲激光沉积法 | 第13-14页 |
1.3.2 磁控溅射法 | 第14页 |
1.3.3 分子束外延生长法 | 第14页 |
1.3.4 化学气相沉积法 | 第14-15页 |
1.3.5 水热法 | 第15页 |
1.3.6 喷雾热分解法 | 第15-16页 |
1.3.7 溶胶-凝胶法 | 第16页 |
1.4 论文的主要研究内容 | 第16-17页 |
第2章 实验方法及薄膜制备 | 第17-23页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第17-18页 |
2.2 薄膜制备 | 第18-19页 |
2.3 薄膜的表征 | 第19-23页 |
2.3.1 X-射线衍射(XRD) | 第19-20页 |
2.3.2 紫外-可见光光谱(UV-Vis) | 第20页 |
2.3.3 荧光光谱 | 第20-21页 |
2.3.4 四探针法 | 第21页 |
2.3.5 原子力显微镜 | 第21-22页 |
2.3.6 扫描电子显微镜 | 第22-23页 |
第3章 AZO薄膜制备工艺优化 | 第23-43页 |
3.1 前驱液体积对AZO薄膜性能的影响 | 第23-28页 |
3.1.1 实验方案 | 第23页 |
3.1.2 结构分析 | 第23-24页 |
3.1.3 光电学性能 | 第24-27页 |
3.1.4 薄膜表面形貌分析 | 第27-28页 |
3.2 双源AACVD法制备AZO薄膜 | 第28-33页 |
3.2.1 实验方案 | 第28-29页 |
3.2.2 结构分析 | 第29-30页 |
3.2.3 光电学性能 | 第30-32页 |
3.2.4 表面形貌分析 | 第32-33页 |
3.3 雾化间隔对Al掺杂ZnO薄膜性能影响 | 第33-39页 |
3.3.1 实验方案 | 第33-34页 |
3.3.2 结构性能分析 | 第34-35页 |
3.3.3 光电学性能分析 | 第35-38页 |
3.3.4 形貌分析 | 第38-39页 |
3.4 雾化时间对AZO薄膜性能的影响 | 第39-42页 |
3.4.1 实验方案 | 第39页 |
3.4.2 结构分析 | 第39-40页 |
3.4.3 光电学性能分析 | 第40-41页 |
3.4.4 表面形貌分析 | 第41-42页 |
3.5 本章小结 | 第42-43页 |
第4章 Al-N共掺ZnO薄膜制备及其性能研究 | 第43-59页 |
4.1 N掺杂量对薄膜性能的影响 | 第43-48页 |
4.1.1 实验方案 | 第43页 |
4.1.2 结构性能分析 | 第43-44页 |
4.1.3 光学性能和电学性能分析 | 第44-47页 |
4.1.4 N掺杂氧化锌薄膜表面形貌 | 第47-48页 |
4.2 Al-N共掺杂与单掺杂ZnO薄膜性能比较 | 第48-53页 |
4.2.1 实验方案 | 第48页 |
4.2.2 结构性能与元素分析 | 第48-50页 |
4.2.3 光电学性能 | 第50-52页 |
4.2.4 表面形貌分析 | 第52-53页 |
4.3 温度对Al-N共掺ZnO薄膜性能影响 | 第53-58页 |
4.3.1 实验方案 | 第53页 |
4.3.2 结构性能分析 | 第53-55页 |
4.3.3 光电学性能分析 | 第55-57页 |
4.3.4 表面形貌分析 | 第57-58页 |
4.4 本章小结 | 第58-59页 |
第5章 ZnO第一性原理计算 | 第59-67页 |
5.1 Al-N共掺ZnO与Al、N单掺第一性原理计算比较 | 第59-63页 |
5.1.1 建立ZnO晶胞掺杂模型 | 第59-60页 |
5.1.2 计算结果与讨论 | 第60-63页 |
5.2 缺陷对Al、N共掺杂ZnO的影响的第一性原理计算 | 第63-66页 |
5.2.1 晶胞模型建立 | 第63-64页 |
5.2.2 计算结果与分析 | 第64-66页 |
5.3 本章小结 | 第66-67页 |
结论 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-73页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第73-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
作者简介 | 第75页 |