| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 引言 | 第13-41页 |
| 1.1 热释光和光释光基本概念 | 第13页 |
| 1.2 热释光和光释光的模型和理论 | 第13-21页 |
| 1.2.1 热释光和光释光的简单模型 | 第13-15页 |
| 1.2.2 热释光动力学模型 | 第15-18页 |
| 1.2.2.1 Randall-Wilkins热释光一级动力学模型 | 第15-17页 |
| 1.2.2.2 Garlick和Gibson热释光二级动力学方程 | 第17页 |
| 1.2.2.3 热释光一般级动力学方程 | 第17-18页 |
| 1.2.3 光释光动力模型 | 第18-21页 |
| 1.3 热释光和光释光的应用领域 | 第21-26页 |
| 1.3.1 辐射剂量学 | 第21-24页 |
| 1.3.1.1 热释光和光释光剂量学的特点 | 第21-23页 |
| 1.3.1.2 热释光和光释光剂量学材料的一般要求 | 第23-24页 |
| 1.3.2 年龄测定 | 第24-25页 |
| 1.3.3 地质学领域 | 第25页 |
| 1.3.4 固体中的缺陷研究 | 第25页 |
| 1.3.5 其他应用 | 第25-26页 |
| 1.4 热释光和光释光剂量学材料的发展现状 | 第26-29页 |
| 1.4.1 氟化锂(LiF)系列 | 第26-27页 |
| 1.4.2 硫酸钙(CaSO_4)系列 | 第27页 |
| 1.4.3 氟化钙(CaF_2)系列 | 第27页 |
| 1.4.4 硼酸锂(Li_2B_4O_7)系列 | 第27-28页 |
| 1.4.5 硅酸镁(Mg_2SiO_4) | 第28页 |
| 1.4.6 其他的热释光材料 | 第28-29页 |
| 1.4.6.1 氧化铍(BeO) | 第28页 |
| 1.4.6.2 氧化铝Al_2O_3 | 第28-29页 |
| 1.5 α-Al_2O_3:C晶体及陶瓷的研究现状 | 第29-34页 |
| 1.5.1 α-Al_2O_3:C晶体的研究现状 | 第29-32页 |
| 1.5.1.1 α-Al_2O_3:C晶体的的光学特性 | 第29-30页 |
| 1.5.1.2 α-Al_2O_3:C晶体的热释光特性 | 第30-31页 |
| 1.5.1.3 α-Al_2O_3:C晶体的光释光特性 | 第31页 |
| 1.5.1.4 α-Al_2O_3:C晶体的优点 | 第31-32页 |
| 1.5.2 α-Al_2O_3:C陶瓷的研究现状 | 第32-34页 |
| 1.5.2.1 α-Al_2O_3:C陶瓷的热释光性能 | 第32-33页 |
| 1.5.2.2 α-Al_2O_3:C陶瓷的光释光性能 | 第33-34页 |
| 1.5.2.3 α-Al_2O_3:C陶瓷的优点 | 第34页 |
| 1.6 α-Al_2O_3:C晶体及α-Al_2O_3陶瓷的制备方法 | 第34-38页 |
| 1.6.1 α-Al_2O_3晶体生长方法 | 第34-37页 |
| 1.6.1.1 焰熔法(Verneuil) | 第35页 |
| 1.6.1.2 提拉法(Cz) | 第35页 |
| 1.6.1.3 导模法(EFG) | 第35-36页 |
| 1.6.1.4 热交换法(HEM) | 第36页 |
| 1.6.1.5 温梯法(TGT) | 第36-37页 |
| 1.6.2 α-Al_2O_3陶瓷的制备方法 | 第37-38页 |
| 1.7 本文的选题依据和研究内容 | 第38-41页 |
| 1.7.1 选题依据 | 第38-39页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第39-41页 |
| 第二章 实验方法及实验过程 | 第41-49页 |
| 2.1 导模法生长α-Al_2O_3:C晶体 | 第41-43页 |
| 2.1.1 导模法的基本原理及特点 | 第41-42页 |
| 2.1.2 导模法生长α-Al_2O_3:C晶体 | 第42-43页 |
| 2.2 真空烧结制备α-Al_2O_3:C陶瓷 | 第43-44页 |
| 2.3 测试表征手段 | 第44-49页 |
| 2.3.1 二维热释光和光释光性能测试 | 第44-47页 |
| 2.3.2 三维热释光性能测试 | 第47页 |
| 2.3.3 吸收光谱 | 第47页 |
| 2.3.4 X射线激光发射光谱 | 第47-48页 |
| 2.3.5 X射线粉末衍射(XRD) | 第48-49页 |
| 第三章 导模法生长α-Al_2O_3:C的晶体 | 第49-67页 |
| 3.1 α-Al_2O_3:C晶体的生长及特性 | 第49-59页 |
| 3.1.1 α-Al_2O_3:C晶体的光学性能 | 第50-51页 |
| 3.1.2 α-Al_2O_3:C晶体的热释光性能 | 第51-55页 |
| 3.1.3 α-Al_2O_3:C晶体的热释光剂量响应 | 第55-56页 |
| 3.1.4 α-Al_2O_3:C晶体的光释光性能 | 第56-57页 |
| 3.1.5 α-Al_2O_3:C晶体的光释光剂量响应 | 第57-58页 |
| 3.1.6 碳在α-Al_2O_3:C晶体TL和OSL性能形成过程中的作用 | 第58-59页 |
| 3.2 不同射线辐照α-Al_2O_3:C晶体的特性 | 第59-64页 |
| 3.2.1 不同射线辐照α-Al_2O_3:C晶体的热释光特性 | 第59-62页 |
| 3.2.2 不同射线辐照α-Al_2O_3:C晶体的热释光剂量响应 | 第62页 |
| 3.2.3 不同射线辐照α-Al_2O_3:C晶体的光释光特性 | 第62-64页 |
| 3.2.4 不同射线辐照α-Al_2O_3:C晶体光释光剂量响应 | 第64页 |
| 3.3 本章小结 | 第64-67页 |
| 第四章 真空烧结制备的α-Al_2O_3:C陶瓷 | 第67-73页 |
| 4.1 α-Al_2O_3:C陶瓷的制备及特性 | 第67-68页 |
| 4.2 不同射线辐照α-Al_2O_3:C陶瓷的特性 | 第68-72页 |
| 4.2.1 不同射线辐照α-Al_2O_3:C陶瓷的热释光特性 | 第68-70页 |
| 4.2.2 不同射线辐照α-Al_2O_3:C陶瓷的热释光剂量响应 | 第70页 |
| 4.2.3 不同射线辐照α-Al_2O_3:C陶瓷的光释光特性 | 第70-71页 |
| 4.2.4 不同射线辐照α-Al_2O_3:C陶瓷的光释光剂量响应 | 第71-72页 |
| 4.3 本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-87页 |
| 附录 | 第87页 |
