| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 磁电材料简介 | 第13-16页 |
| 1.2.1 单相磁电材料 | 第13-14页 |
| 1.2.2 磁电复合材料 | 第14-16页 |
| 1.3 钴铁氧体和铁酸铋材料简介 | 第16-18页 |
| 1.3.1 钴铁氧体简介 | 第16-17页 |
| 1.3.2 铁酸铋简介 | 第17-18页 |
| 1.4 铁磁和铁电薄膜常用制备方法 | 第18-20页 |
| 1.4.1 磁控溅射法 | 第19页 |
| 1.4.2 脉冲激光沉积法 | 第19页 |
| 1.4.3 溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| 1.4.4 化学气相沉积法 | 第20页 |
| 1.5 喷雾热解法制备铁磁和铁电薄膜 | 第20-24页 |
| 1.5.1 喷雾热解法制备尖晶石铁氧体薄膜研究进展 | 第20-22页 |
| 1.5.2 喷雾热解法制备铁酸铋薄膜研究进展 | 第22-24页 |
| 1.6 本课题的研究目标、研究意义和研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 超声喷雾热解沉积薄膜制备系统的设计与改进 | 第25-41页 |
| 2.1 喷雾热解法制膜的基本原理 | 第25-27页 |
| 2.2 喷雾热解工艺参数对薄膜的影响 | 第27-28页 |
| 2.3 喷雾热解法制膜的特点和应用范围 | 第28-29页 |
| 2.3.1 喷雾热解法制备薄膜的特点 | 第28-29页 |
| 2.3.2 喷雾热解法的应用范围 | 第29页 |
| 2.4 目前国内外喷雾热解制膜系统的结构 | 第29-33页 |
| 2.5 超声喷雾热解制膜设备的设计 | 第33-36页 |
| 2.5.1 设备基本构造 | 第33-35页 |
| 2.5.2 设备特点 | 第35-36页 |
| 2.6 设备改造优化 | 第36-41页 |
| 第三章 材料制备和分析方法 | 第41-47页 |
| 3.1 薄膜的制备 | 第41-42页 |
| 3.1.1 前期准备 | 第41-42页 |
| 3.1.2 样品制备 | 第42页 |
| 3.2 薄膜退火处理 | 第42-43页 |
| 3.3 样品的分析方法 | 第43-47页 |
| 3.3.1 X 射线衍射仪 | 第43-44页 |
| 3.3.2 扫描电子显微镜 | 第44-45页 |
| 3.3.3 综合物性测试系统 | 第45-47页 |
| 第四章 超声喷雾热解法制备钴铁氧体薄膜 | 第47-69页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 实验条件 | 第47-48页 |
| 4.3 实验结果及其讨论 | 第48-67页 |
| 4.3.1 基片温度对钴铁氧体薄膜制备的影响 | 第48-55页 |
| 4.3.1.1 基片温度对薄膜相组成的影响 | 第48-49页 |
| 4.3.1.2 基片温度对薄膜微观结构的影响 | 第49-53页 |
| 4.3.1.3 基片温度对薄膜磁性能的影响 | 第53-55页 |
| 4.3.2 退火处理对钴铁氧体薄膜性能的影响 | 第55-61页 |
| 4.3.2.1 退火处理对薄膜相组成的影响 | 第55-57页 |
| 4.3.2.2 退火处理对薄膜形貌的影响 | 第57-58页 |
| 4.3.2.3 退火处理对薄膜磁性能的影响 | 第58-61页 |
| 4.3.3 改善钴铁氧体薄膜性能的探索研究 | 第61-67页 |
| 4.3.3.1 退火处理对 350℃沉积的钴铁氧体薄膜的改善作用 | 第61-63页 |
| 4.3.3.2 退火处理对 400℃沉积的钴铁氧体薄膜的改善作用 | 第63-64页 |
| 4.3.3.3 退火处理对 450℃沉积的钴铁氧体薄膜的改善作用 | 第64-66页 |
| 4.3.3.4 退火处理对 500℃沉积的钴铁氧体薄膜的改善作用 | 第66-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 第五章 超声喷雾热解法制备铁酸铋薄膜 | 第69-83页 |
| 5.1 引言 | 第69页 |
| 5.2 实验条件 | 第69-71页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第71-81页 |
| 5.3.1 基片温度对铁酸铋薄膜制备的影响 | 第71-75页 |
| 5.3.1.1 基片温度对薄膜相组成的影响 | 第71-72页 |
| 5.3.1.2 基片温度对薄膜微观结构的影响 | 第72-74页 |
| 5.3.1.3 基片温度对薄膜磁性能的影响 | 第74-75页 |
| 5.3.2 退火处理对铁酸铋薄膜的改善 | 第75-81页 |
| 5.3.2.1 退火处理对薄膜相组成的影响 | 第75-76页 |
| 5.3.2.2 退火处理对薄膜形貌的影响 | 第76-77页 |
| 5.3.2.3 退火处理对薄膜磁性能的影响 | 第77-80页 |
| 5.3.2.4 增加铋离子浓度对薄膜退火后相组成和磁性能的影响 | 第80-81页 |
| 5.4 本章小结 | 第81-83页 |
| 结论 | 第83-85页 |
| 本研究的创新性 | 第84页 |
| 下一步研究建议 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-93页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第93-94页 |
| 致谢 | 第94-95页 |
| 附件 | 第95页 |
