基于CCD的射流盘尺寸及形位公差的检测方法研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 课题背景 | 第8-10页 |
| 1.2 CCD 检测技术发展现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 国外技术现状及分析 | 第11-12页 |
| 1.2.2 国内技术现状及分析 | 第12-13页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第13-15页 |
| 第2章 万能工具显微镜的 CCD 改造 | 第15-28页 |
| 2.1 万工显改造方案综述 | 第15-16页 |
| 2.2 万工显改造实现过程 | 第16-19页 |
| 2.2.1 CCD 图像传感器的选取 | 第16-17页 |
| 2.2.2 光栅测量系统的选取 | 第17-18页 |
| 2.2.3 图像测量软件的选取 | 第18-19页 |
| 2.3 软件实现原理 | 第19-23页 |
| 2.3.1 图像处理流程 | 第19-20页 |
| 2.3.2 灰度变换 | 第20页 |
| 2.3.3 阈值分割 | 第20-21页 |
| 2.3.4 去噪处理 | 第21-22页 |
| 2.3.5 边缘提取 | 第22-23页 |
| 2.3.6 结果输出 | 第23页 |
| 2.4 检测系统精度的校准 | 第23-27页 |
| 2.4.1 光栅尺精度校准 | 第24页 |
| 2.4.2 CCD 摄像机标定 | 第24-26页 |
| 2.4.3 万工显导轨精度的检定 | 第26-27页 |
| 2.4.4 万工显示值误差的检定 | 第27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 射流盘检测方法设计 | 第28-37页 |
| 3.1 射流盘检测方式的选取 | 第28-30页 |
| 3.2 镜头放大倍数选取 | 第30页 |
| 3.3 光源照明方式选取 | 第30-31页 |
| 3.4 射流盘固定方式设计 | 第31-32页 |
| 3.5 测量采点方式的选择 | 第32-33页 |
| 3.6 检测方法设计 | 第33-36页 |
| 3.6.1 射流盘距离尺寸检测 | 第33页 |
| 3.6.2 射流盘垂直度检测 | 第33-34页 |
| 3.6.3 射流盘对称度检测 | 第34-36页 |
| 3.7 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 测量误差分析与改进 | 第37-45页 |
| 4.1 光学畸变误差 | 第37-40页 |
| 4.2 调焦清晰度误差 | 第40-42页 |
| 4.3 照明系统误差 | 第42-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第5章 射流盘检测结果与分析 | 第45-49页 |
| 5.1 基本尺寸检测数据分析 | 第45-46页 |
| 5.2 形位公差检测数据分析 | 第46-47页 |
| 5.3 圆尺寸检测数据分析 | 第47-48页 |
| 5.4 角度检测数据分析 | 第48页 |
| 5.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 附录 | 第54-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 个人简历 | 第61页 |
