| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.2 硅基太阳电池的发展现状 | 第12-14页 |
| 1.2.1 n-i-p 型柔性衬底硅基薄膜太阳电池的发展现状 | 第12页 |
| 1.2.2 HIT 异质结太阳电池的发展现状 | 第12-14页 |
| 1.3 应用于太阳电池的 TCO 薄膜 | 第14-18页 |
| 1.3.1 TCO 薄膜材料 | 第14-16页 |
| 1.3.2 ITO 薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.3.3 ITO 薄膜的研究进展 | 第17-18页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 实验方法及测试技术 | 第20-26页 |
| 2.1 ITO 薄膜的制备方法与设备 | 第20-21页 |
| 2.1.1 反应热蒸发法 | 第20-21页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第21页 |
| 2.2 ITO 薄膜及太阳电池性能的表征方法 | 第21-26页 |
| 2.2.1 薄膜厚度的测试 | 第21-22页 |
| 2.2.2 薄膜结构特性的表征 | 第22-23页 |
| 2.2.3 薄膜光学特性的测试 | 第23-24页 |
| 2.2.4 薄膜电学特性的测试 | 第24页 |
| 2.2.5 太阳电池 J-V 特性的测试 | 第24页 |
| 2.2.6 量子效率(QE)的测试 | 第24-26页 |
| 第三章 ITO 薄膜的生长优化工艺及其性能的研究 | 第26-44页 |
| 3.1 厚度对 ITO 薄膜性能的影响 | 第26-31页 |
| 3.1.1 厚度对 ITO 薄膜结构特性的影响 | 第26-29页 |
| 3.1.2 厚度对 ITO 薄膜光电特性的影响 | 第29-31页 |
| 3.2 衬底温度对 ITO 薄膜性能的影响 | 第31-36页 |
| 3.2.1 衬底温度对 ITO 薄膜结构特性的影响 | 第32-34页 |
| 3.2.2 衬底温度对 ITO 薄膜光电特性的影响 | 第34-36页 |
| 3.3 Sn 掺杂含量对 ITO 薄膜性能的影响 | 第36-42页 |
| 3.3.1 Sn 掺杂含量对 ITO 薄膜结构特性的影响 | 第36-40页 |
| 3.3.2 Sn 掺杂含量对 ITO 薄膜光电特性的影响 | 第40-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 ITO 薄膜在硅基薄膜太阳电池和 HIT 太阳电池中的应用 | 第44-60页 |
| 4.1 ITO 薄膜应用于硅基薄膜太阳电池 | 第44-57页 |
| 4.1.1 退火处理对 p 型微晶硅薄膜性能的影响 | 第45-49页 |
| 4.1.2 ITO 薄膜在 n-i-p 型双叠层和三叠层太阳电池中的应用 | 第49-51页 |
| 4.1.3 ITO 薄膜的衬底温度对非晶硅电池性能的影响 | 第51-57页 |
| 4.2 ITO 薄膜的衬底温度对 HIT 太阳电池性能的影响 | 第57-59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
