| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 MOF材料简介 | 第13-15页 |
| 1.3 计算化学方法简介 | 第15-21页 |
| 1.3.1 量子力学计算方法 | 第17-18页 |
| 1.3.2 分子模拟计算方法 | 第18-21页 |
| 1.4 计算化学方法在MOF材料研究中的应用 | 第21-27页 |
| 1.4.1 量子力学方法在MOFs研究中的应用 | 第21-23页 |
| 1.4.2 分子模拟方法在MOFs研究中的应用 | 第23-27页 |
| 1.5 MOF材料的分子设计 | 第27页 |
| 1.6 选题依据和意义 | 第27-28页 |
| 1.7 本论文的创新之处 | 第28-29页 |
| 第二章 分子模拟中采用的材料结构和计算方法 | 第29-37页 |
| 2.1 引言 | 第29-30页 |
| 2.2 计算模型和方法 | 第30-37页 |
| 2.2.1 MOF材料的结构 | 第30-33页 |
| 2.2.2 势能模型与参数 | 第33-35页 |
| 2.2.3 GCMC的模拟细节 | 第35-37页 |
| 第三章 MOF材料分离氢同位素的分子模拟结果与讨论 | 第37-51页 |
| 3.1 力场的验证 | 第37-39页 |
| 3.2 选择性S(D_2/H_2)与压力的关系 | 第39-41页 |
| 3.3 材料Cu(F-pymo)_2的分离选择性 | 第41-43页 |
| 3.4 材料CPL-1的分离选择性 | 第43-51页 |
| 3.4.1 吸附的snapshot图 | 第43-46页 |
| 3.4.2 有效吸附区域 | 第46-48页 |
| 3.4.3 静电势分布 | 第48-49页 |
| 3.4.4 单组分吸附 | 第49-51页 |
| 第四章 分离选择性S(D_2/H_2)与材料的孔径之间的关系 | 第51-61页 |
| 4.1 S(D_2/H_2)与材料的传统孔径之间的关系 | 第51-53页 |
| 4.2 S(D_2/H_2)与材料的量子化孔径之间的关系 | 第53-56页 |
| 4.2.1 量子化孔径的计算方法 | 第53-54页 |
| 4.2.2 S(D_2/H_2)与材料的量子化孔径之间的关系 | 第54-56页 |
| 4.3 Cu-MMOM突出的原因 | 第56-57页 |
| 4.4 S(T_2/H_2)、S(T_2/D_2)与材料的量子化孔径之间的关系 | 第57-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第73-75页 |
| 作者简介 | 第75-77页 |
| 导师简介 | 第77页 |
