| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-28页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·储氢材料的发展 | 第12页 |
| ·AlH_3储氢材料概述 | 第12-24页 |
| ·AlH_3在储氢方面的应用 | 第13-14页 |
| ·AlH_3的湿法合成 | 第14-16页 |
| ·其他合成AlH_3的方法 | 第16-20页 |
| ·球磨法合成AlH_3 | 第20-21页 |
| ·AlH_3的分解反应 | 第21-24页 |
| ·Mg(AlH_4)_2的研究进展 | 第24-26页 |
| ·选题的意义及研究内容 | 第26-28页 |
| 2 实验方法 | 第28-31页 |
| ·实验方法 | 第28-30页 |
| ·电子束蒸发原理简介 | 第28页 |
| ·磁控溅射原理简介 | 第28-29页 |
| ·球磨原理简介 | 第29-30页 |
| ·测试方法 | 第30-31页 |
| ·X射线衍射物相鉴别技术(XRD) | 第30页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第30页 |
| ·示差扫描量热分析(DSC) | 第30页 |
| ·质谱分析 | 第30-31页 |
| 3 以铝和氢气反应合成AlH_3 | 第31-38页 |
| ·电子束蒸发铝与氢气反应合成AlH_3 | 第31-33页 |
| ·实验方法 | 第31-32页 |
| ·电子束蒸发产物的物相分析 | 第32-33页 |
| ·磁控溅射Al与H_2反应制备氢化铝 | 第33-36页 |
| ·实验方法 | 第34页 |
| ·不同功率对磁控溅射Al与H_2反应产物物相的影响 | 第34-35页 |
| ·不同沉积时间对磁控溅射Al与H_2反应产物物相的影响 | 第35页 |
| ·不同沉积气压对磁控溅射Al与H_2反应产物物相的影响 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 4 以MH_n(M=Mg,Ca,Na;n=1或2)和AlCl_3球磨反应合成AlH_3 | 第38-48页 |
| · | 第38-39页 |
| ·实验原料 | 第38页 |
| ·原料MgH_2的制备 | 第38-39页 |
| ·MHn(M=Mg,Ca,Na;n=1或2),AlCl_3球磨反应制备AlH_3热力学计算 | 第39-42页 |
| ·MgH_2和AlCl_3反应体系热力计算 | 第40-41页 |
| ·CaH_2和AlCl_3反应体系热力计算 | 第41页 |
| ·NaH和AlCl_3反应体系热力计算 | 第41-42页 |
| ·不同球磨体系对合成产物的影响 | 第42-47页 |
| ·实验方法 | 第42-43页 |
| ·CaH_2与AlCl_3球磨体系对合成产物的影响 | 第43-45页 |
| ·NaH与AlCl_3球磨体系对合成产物的影响 | 第45-46页 |
| ·MgH_2+AlCl_3球磨体系对合成产物的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 5 MgH_2与AlCl_3球磨反应体系的固相化学反应规律 | 第48-56页 |
| ·温度对MgH_2和AlCl_3球磨反应体系的影响 | 第48-51页 |
| ·MgH_2+AlCl_3反应体系热力学分析 | 第48-50页 |
| ·不同球磨温度对体系的物相的影响 | 第50-51页 |
| ·不同球磨时间对低温球磨MgH_2和AlCl_3体系的影响 | 第51-53页 |
| ·不同球磨时间对物相的影响 | 第51-52页 |
| ·红外光谱分析 | 第52-53页 |
| ·MgH_2和AlCl_3低温球磨产物的热稳定性 | 第53-54页 |
| ·MS-DSC分析 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 在学研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
