| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 研究目的及意义 | 第9页 |
| 1.2 压敏电阻材料体系的分类及体系选择 | 第9-14页 |
| 1.3 以ZnO压敏材料为代表的压敏理论模型 | 第14-17页 |
| 1.4 研究内容 | 第17-18页 |
| 2 实验过程及测试方法 | 第18-23页 |
| 2.1 实验设备及原料 | 第18-19页 |
| 2.2 材料制备及测试方法 | 第19-23页 |
| 3 还原再氧化制备ZnO-Pr_6O_(11-_Co_2O_(3-x)MnO_2压敏陶瓷 | 第23-33页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 还原再氧化工艺的烧结特征 | 第23-28页 |
| 3.3 还原再氧化工艺下电学特征 | 第28-32页 |
| 3.4 本章小节 | 第32-33页 |
| 4 BN掺杂对还原再氧化工艺的影响 | 第33-50页 |
| 4.1 引言 | 第33页 |
| 4.2 BN掺杂量对密度、微观结构和电性能的影响 | 第33-37页 |
| 4.3 烧结温度和再氧化温度对微观结构和压敏性能的影响 | 第37-42页 |
| 4.4 再氧化中的相成分和缺陷变化 | 第42-48页 |
| 4.5 本章小节 | 第48-50页 |
| 5 结论与展望 | 第50-52页 |
| 5.1 结论 | 第50-51页 |
| 5.2 展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |