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热成像检测中材料表面热发射率影响机理及其抑制方法

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第10-20页
    1.1 课题研究背景及意义第10-12页
    1.2 红外热成像检测技术第12-16页
        1.2.1 红外热成像检测技术概述第12-13页
        1.2.2 红外热成像检测技术发展现状第13-16页
    1.3 热成像中材料表面热发射率概况及研究进展第16-18页
        1.3.1 材料表面发射率概况第16页
        1.3.2 红外热成像检测中材料表面发射率的国内外研究现状第16-18页
    1.4 主要内容和章节安排第18-20页
第二章 红外热成像检测技术及材料表面热发射率的研究第20-33页
    2.1 红外热成像理论基础第20-23页
        2.1.1 红外辐射及红外辐射基本定律第20-22页
        2.1.2 红外热像仪原理第22-23页
    2.2 红外热成像无损检测原理第23-25页
    2.3 红外热成像无损检测系统第25-28页
    2.4 发射率的定义及影响因素第28-31页
        2.4.1 发射率的定义第28-29页
        2.4.2 发射率的影响因素第29-31页
    2.5 热发射率不均对热成像检测的影响形式第31-32页
    2.6 本章小结第32-33页
第三章 材料表面热发射率影响热成像检测的机理研究第33-53页
    3.1 热传递理论第33-35页
        3.1.1 热传导第33-34页
        3.1.2 热对流第34-35页
        3.1.3 热辐射第35页
    3.2 热传递有限差分模型第35-39页
        3.2.1 表面单元体的有限差分模型第36-38页
        3.2.2 非表面单元体的有限差分模型第38-39页
    3.3 热发射率对热成像的影响机理第39-52页
        3.3.1 材料表面温度影响因素的数值仿真分析第39-47页
        3.3.2 材料表面温度影响因素的实验分析第47-50页
        3.3.3 热发射率影响热成像的本质第50-52页
    3.4 本章小结第52-53页
第四章 热成像中材料表面发射率不均的抑制方法第53-76页
    4.1 基于温度与热发射率分离的方法第53-59页
        4.1.1 二次热平衡法第54-57页
        4.1.2 归一化第57-59页
    4.2 基于Kmeans聚类算法的曲线形态相似性的方法第59-65页
        4.2.1 Kmeans聚类算法第60-63页
        4.2.2 热响应曲线形态的相关分析第63-65页
    4.3 基于异常区域定位的方法第65-75页
        4.3.1 缺陷端点定位第66-72页
        4.3.2 缺陷端点增强第72-73页
        4.3.3 实验测试第73-75页
    4.4 本章小结第75-76页
第五章 总结与展望第76-79页
    5.1 全文工作总结第76-77页
    5.2 后续工作展望第77-79页
致谢第79-80页
参考文献第80-84页
攻读硕士学位期间取得的成果第84-85页

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