| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·前言 | 第9页 |
| ·石墨烯的结构与性质 | 第9-13页 |
| ·石墨烯的结构 | 第9-10页 |
| ·石墨烯的性质 | 第10-13页 |
| ·石墨烯的制备 | 第13-17页 |
| ·微机械剥离法 | 第13-14页 |
| ·化学剥离方法 | 第14-15页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第15-16页 |
| ·SiC 高温退火法 | 第16-17页 |
| ·石墨烯的应用 | 第17-19页 |
| ·电子器件 | 第17页 |
| ·太阳能电池 | 第17-18页 |
| ·复合材料 | 第18页 |
| ·储能材料 | 第18页 |
| ·光电材料 | 第18-19页 |
| ·本课题的选题 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-25页 |
| 第二章 分子束外延生长技术 | 第25-37页 |
| ·分子束外延的物理过程 | 第25-27页 |
| ·分子束外延技术的优点 | 第27-28页 |
| ·分子束外延技术的应用 | 第28页 |
| ·固源分子束外延（SSMBE）设备 | 第28-34页 |
| ·电子束蒸发器 | 第30-31页 |
| ·高温样品架 | 第31-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-37页 |
| 第三章 Si（111）衬底上多层石墨烯薄膜的外延生长 | 第37-49页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·样品制备和测试 | 第37-38页 |
| ·实验结果与讨论 | 第38-45页 |
| ·RHEED 结果 | 第38-40页 |
| ·FTIR 结果 | 第40-41页 |
| ·Raman 结果 | 第41-42页 |
| ·NEXAFS 结果 | 第42-44页 |
| ·结论 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 第四章 Si0_2/Si 衬底上石墨烯的制备与结构表征 | 第49-61页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·样品制备 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-57页 |
| ·Raman 结果 | 第50-54页 |
| ·NEXAFS 结果 | 第54-56页 |
| ·XPS 结果 | 第56-57页 |
| ·结论 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 硕士期间所发表的论文 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63页 |