摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
1.2 含钛薄膜的制备方法 | 第11-13页 |
1.3 含Ti选择性吸收薄膜 | 第13-14页 |
1.3.1 选择性吸收薄膜概述 | 第13页 |
1.3.2 Ti-DLC选择性吸收薄膜研究现状 | 第13-14页 |
1.4 含Ti颜色薄膜 | 第14-17页 |
1.4.1 薄膜的Lab颜色系统 | 第14-15页 |
1.4.2 TiN光学薄膜研究现状 | 第15-16页 |
1.4.3 TiC薄膜研究现状 | 第16-17页 |
1.5 选题依据 | 第17页 |
1.6 论文研究内容 | 第17-19页 |
第2章 实验方案 | 第19-26页 |
2.1 实验设备 | 第19-21页 |
2.2 实验方法 | 第21-23页 |
2.2.1 Al/Ti-DLC/DLC选择性吸收涂层的制备工艺 | 第21页 |
2.2.2 TiN薄膜的制备工艺 | 第21-22页 |
2.2.3 TiC薄膜的制备工艺 | 第22-23页 |
2.3 薄膜表征 | 第23-26页 |
2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第23页 |
2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
2.3.3 三维白光干涉表面轮廓仪 | 第23-24页 |
2.3.4 拉曼光谱分析仪(Raman) | 第24页 |
2.3.5 UV-VIS-NIR分光光度计 | 第24-25页 |
2.3.6 CM-5 分光测色计 | 第25-26页 |
第3章 靶电流和Ar流量对Al/Ti-DLC/DLC选择性吸收薄膜光学性能的影响 | 第26-39页 |
3.1 Al/Ti-DLC/DLC选择性吸收薄膜的结构 | 第26-27页 |
3.2 C靶电流对DLC减反射层的影响 | 第27-30页 |
3.3 Ar流量对DLC减反射层的影响 | 第30-32页 |
3.4 Ti靶电流对Ti-DLC吸收层的影响 | 第32-35页 |
3.5 靶电流和Ar流量对Al/Ti-DLC/DLC选择性吸收薄膜的影响机理 | 第35-38页 |
3.6 本章小结 | 第38-39页 |
第4章 Ti靶电流和N2流量对TiN薄膜光学性能的影响 | 第39-52页 |
4.1 钛靶电流对TiN薄膜的影响 | 第39-45页 |
4.1.1 钛靶电流的变化对TiN薄膜颜色的影响 | 第39-42页 |
4.1.2 钛靶电流的变化对TiN薄膜形貌的影响 | 第42-43页 |
4.1.3 钛靶电流的变化对TiN薄膜厚度的影响 | 第43-44页 |
4.1.4 钛靶电流的变化对TiN薄膜反射率的影响 | 第44页 |
4.1.5 钛靶电流的变化对TiN薄膜元素比例的影响 | 第44-45页 |
4.2 N_2流量对TiN薄膜的影响 | 第45-50页 |
4.2.1 氮气流量的变化对TiN薄膜颜色的影响 | 第45-47页 |
4.2.2 氮气流量的变化对TiN薄膜形貌的影响 | 第47-49页 |
4.2.3 氮气流量的变化对TiN薄膜厚度的影响 | 第49页 |
4.2.4 氮气流量的变化对TiN薄膜反射率的影响 | 第49-50页 |
4.3 本章小结 | 第50-52页 |
第5章 靶电流和气体流量对TiC薄膜光学性能的影响 | 第52-62页 |
5.1 靶电流对TiC薄膜光学性能的影响 | 第52-56页 |
5.1.1 钛靶电流变化对TiC薄膜颜色的影响 | 第52-53页 |
5.1.2 钛靶电流变化对TiC薄膜形貌的影响 | 第53-54页 |
5.1.3 钛靶电流变化对TiC薄膜反射率的影响 | 第54-55页 |
5.1.4 钛靶电流变化对TiC薄膜厚度的影响 | 第55-56页 |
5.1.5 钛靶电流对TiC薄膜粗糙度的影响 | 第56页 |
5.2 乙炔流量对TiC薄膜的影响 | 第56-61页 |
5.2.1 乙炔流量的变化对TiC薄膜颜色的影响 | 第56-57页 |
5.2.2 乙炔流量变化对TiC薄膜形貌的影响 | 第57-58页 |
5.2.3 乙炔流量的变化对TiC薄膜透射率的影响 | 第58-59页 |
5.2.4 乙炔流量的变化对TiC薄膜厚度的影响 | 第59-60页 |
5.2.5 乙炔流量的变化对TiC薄膜粗糙度的影响 | 第60-61页 |
5.3 本章小结 | 第61-62页 |
第6章 结论 | 第62-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-70页 |
个人简历 | 第70-71页 |
在学期间研究成果 | 第71页 |