| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-30页 |
| 1.1 高压电解电容器用高纯铝箔发展现状 | 第11-13页 |
| 1.2 冷轧高纯铝箔的再结晶行为与织构 | 第13-14页 |
| 1.2.1 再结晶的概念及过程 | 第13页 |
| 1.2.2 高纯铝箔再结晶织构形成机制及类型 | 第13-14页 |
| 1.3 工艺过程对高纯铝箔再结晶织构的影响 | 第14-19页 |
| 1.3.1 冷轧工艺对再结晶织构的影响 | 第15-16页 |
| 1.3.2 热处理工艺对再结晶织构的影响 | 第16-19页 |
| 1.4 退火过程中立方织构{001}<100>的形成条件 | 第19-22页 |
| 1.4.1 变形基体中的立方取向亚结构 | 第20页 |
| 1.4.2 立方取向核的生成 | 第20-21页 |
| 1.4.3 立方取向核的生长 | 第21页 |
| 1.4.4 主导立方织构的生成 | 第21-22页 |
| 1.5 电解抛光技术 | 第22-23页 |
| 1.5.1 电解抛光原理 | 第22页 |
| 1.5.2 影响电解抛光的主要因素 | 第22-23页 |
| 1.6 织构的ODF法 | 第23-25页 |
| 1.6.1 晶粒三维取向分布函数 | 第23-24页 |
| 1.6.2 晶粒取向分布图(ODF)的分析 | 第24-25页 |
| 1.6.3 面心立方金属ODF分析 | 第25页 |
| 1.7 EBSD技术 | 第25-28页 |
| 1.7.1 电子背散射花样(EBSD)的产生原理 | 第26-27页 |
| 1.7.2 EBSD样品的准备 | 第27页 |
| 1.7.3 EBSD的应用 | 第27-28页 |
| 1.8 本文研究的主要内容 | 第28-30页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第30-34页 |
| 2.1 试验材料 | 第30页 |
| 2.2 研究方案 | 第30-32页 |
| 2.2.1 高纯铝箔的热处理工艺 | 第30页 |
| 2.2.2 高纯铝箔成品退火后的电解抛光 | 第30-31页 |
| 2.2.3 高纯铝箔织构的测量 | 第31-32页 |
| 2.3 研究方法 | 第32-34页 |
| 2.3.1 金相显微组织观察 | 第32页 |
| 2.3.2 XRD织构测量 | 第32页 |
| 2.3.3 EBSD微观性能测试 | 第32-34页 |
| 第3章 退火工艺对立方织构的影响 | 第34-50页 |
| 3.1 中间退火及轧制制度对再结晶织构的影响 | 第34-41页 |
| 3.1.1 中间退火对再结晶织构的影响 | 第34-37页 |
| 3.1.2 速比对再结晶织构的影响 | 第37-38页 |
| 3.1.3 快慢辊侧再结晶织构的比较 | 第38-40页 |
| 3.1.4 分析及讨论 | 第40-41页 |
| 3.2 退火制度下再结晶织构的变化趋势 | 第41-48页 |
| 3.2.1 退火铝箔的金相显微组织 | 第41-42页 |
| 3.2.2 退火温度对再结晶织构的影响 | 第42-44页 |
| 3.2.3 退火时间对再结晶织构的影响 | 第44-46页 |
| 3.2.4 退火温度及时间再结晶过程的双重作用 | 第46-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 再结晶过程中的织构演变行为 | 第50-76页 |
| 4.1 临界退火温度范围的确定 | 第50-53页 |
| 4.2 宏观再结晶过程分析 | 第53-57页 |
| 4.2.1 不同退火时间下的铝箔再结晶宏观织构表征 | 第53-56页 |
| 4.2.2 退火温度与立方织构转变量 | 第56-57页 |
| 4.3 EBSD下的微观再结晶行为表征 | 第57-69页 |
| 4.3.1 再结晶过程中的铝箔表面取向演变 | 第58-64页 |
| 4.3.2 再结晶过程中的晶界类型描述 | 第64-69页 |
| 4.4 两级退火制度的初探 | 第69-74页 |
| 4.4.1 两级退火的优势 | 第70-71页 |
| 4.4.2 第一阶段回复退火对再结晶织构的影响 | 第71-72页 |
| 4.4.3 两级退火与单级退火的比较 | 第72-74页 |
| 4.5 本章小结 | 第74-76页 |
| 第5章 结论 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81页 |