| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| ·非晶硅薄膜 | 第8-11页 |
| ·非晶硅薄膜研究现状 | 第8页 |
| ·非晶硅薄膜的性质 | 第8-10页 |
| ·非晶硅薄膜的制备方法 | 第10-11页 |
| ·类金刚石薄膜 | 第11-19页 |
| ·类金刚石薄膜研究现状 | 第11-12页 |
| ·类金刚石薄膜的性质 | 第12-15页 |
| ·类金刚石薄膜的制备方法 | 第15-19页 |
| 2 研究目的 | 第19-20页 |
| 3 实验装置及原理简介 | 第20-24页 |
| ·实验装置 | 第20-24页 |
| ·射频电感耦合等离子体沉积系统简介 | 第20-22页 |
| ·脉冲辉光等离子体化学气相沉积系统简介 | 第22-24页 |
| 4 薄膜的表征方法 | 第24-28页 |
| ·膜厚检测仪 | 第24页 |
| ·拉曼散射仪 | 第24-25页 |
| ·透射电子显微镜 | 第25页 |
| ·摩擦磨损试验机 | 第25-26页 |
| ·划痕试验机 | 第26-28页 |
| 5 研究内容 | 第28-44页 |
| ·电感耦合射频等离子体源快速制备氢化非晶硅薄膜 | 第28-34页 |
| ·实验设计 | 第28-29页 |
| ·实验准备工作 | 第29页 |
| ·实验结果及分析 | 第29-33页 |
| ·实验结论 | 第33-34页 |
| ·脉冲辉光等离子体源制备类金刚石薄膜的结构和性能研究 | 第34-44页 |
| ·实验设计 | 第34-35页 |
| ·实验准备工作 | 第35-36页 |
| ·实验结果及分析 | 第36-43页 |
| ·实验结论 | 第43-44页 |
| 结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |