| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 母排防护技术发展现状 | 第9-12页 |
| 1.1.1 电力设备中母排作用和存在的问题 | 第9-10页 |
| 1.1.2 母排的防护方法和研究进展 | 第10-12页 |
| 1.2 导热硅橡胶材料的应用 | 第12-14页 |
| 1.2.1 高导热硅橡胶结构和性能 | 第12-13页 |
| 1.2.2 导热硅橡胶在母排防护中的应用及存在问题 | 第13-14页 |
| 1.3 氧化硅薄膜的制备及应用现状 | 第14-19页 |
| 1.3.1 氧化硅薄膜的结构与特点 | 第14-15页 |
| 1.3.2 氧化硅薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.3.3 氧化硅薄膜的应用范围 | 第17-19页 |
| 1.3.4 氧化硅薄膜防腐性研究现状 | 第19页 |
| 1.4 等离子体辅助化学气相沉积制备氧化硅薄膜 | 第19-23页 |
| 1.4.1 薄膜生长机理研究进展 | 第19-21页 |
| 1.4.2 大气压和低气压PECVD技术简介 | 第21-23页 |
| 1.5 论文研究目的、意义及主要内容 | 第23-25页 |
| 1.5.1 论文研究目的及意义 | 第23页 |
| 1.5.2 论文研究主要内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验设备及测试技术 | 第25-35页 |
| 2.1 实验设备及工艺 | 第25-29页 |
| 2.1.1 APPJ沉积氧化硅薄膜 | 第25-28页 |
| 2.1.2 CCP沉积氧化硅薄膜 | 第28-29页 |
| 2.1.3 导热硅橡胶 | 第29页 |
| 2.2 测试技术 | 第29-35页 |
| 2.2.1 薄膜成分结构分析——FTIR、EDS、XPS | 第29-30页 |
| 2.2.2 薄膜的表面形貌分析——SEM、AFM、WLI | 第30-32页 |
| 2.2.3 薄膜厚度分析——探针轮廓仪 | 第32页 |
| 2.2.4 薄膜附着力测试——百格法 | 第32-33页 |
| 2.2.5 薄膜硬度的测试——铅笔硬度计 | 第33页 |
| 2.2.6 防腐蚀性分析——盐雾腐蚀、电化学腐蚀 | 第33-34页 |
| 2.2.7 绝缘性能测试——体积电阻率 | 第34-35页 |
| 第三章 氧化硅薄膜的制备及结构研究 | 第35-59页 |
| 3.1 铜基底的处理方法 | 第35-39页 |
| 3.2 工艺参数对大气压等离子体沉积氧化硅薄膜的影响 | 第39-49页 |
| 3.2.1 单体通量 | 第39-43页 |
| 3.2.2 沉积时间 | 第43-45页 |
| 3.2.3 基底温度 | 第45-49页 |
| 3.3 大气压和低气压等离子体辅助化学气相沉积制备氧化硅薄膜的性能比较 .. | 第49-58页 |
| 3.3.1 氧化硅薄膜的生长过程 | 第49-54页 |
| 3.3.2 氧化硅薄膜的结构成分 | 第54-57页 |
| 3.3.3 氧化硅薄膜的表面形貌 | 第57-58页 |
| 3.3.4 氧化硅薄膜的硬度及附着力 | 第58页 |
| 3.4 小结 | 第58-59页 |
| 第四章 氧化硅薄膜的防腐蚀性能 | 第59-69页 |
| 4.1 防腐蚀性测试方法 | 第59-60页 |
| 4.2 工艺参数对氧化硅薄膜防腐蚀性能的影响 | 第60-68页 |
| 4.2.1 沉积气压影响 | 第60-64页 |
| 4.2.2 氧化硅薄膜厚度影响 | 第64-66页 |
| 4.2.3 氧化硅薄膜沉积基底温度影响 | 第66-68页 |
| 4.3 氧化硅薄膜防腐蚀性能机制 | 第68页 |
| 4.4 小结 | 第68-69页 |
| 第五章 氧化硅—硅橡胶母排双重防护结构 | 第69-74页 |
| 5.1 母排双重防护结构 | 第69-70页 |
| 5.2 母排双重防护的性能 | 第70-72页 |
| 5.2.1 绝缘性 | 第70-71页 |
| 5.2.2 防腐蚀性 | 第71-72页 |
| 5.2.3 双重防护结构的选择 | 第72页 |
| 5.3 母排双重防护结构的现场施工 | 第72-74页 |
| 第六章 结论与展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第82页 |
