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基于二硼化镁约瑟夫森结结构的研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第7-21页
    1.1 超导材料的发展简史第7-8页
    1.2 超导材料的基本特性第8-12页
        1.2.1 零电阻现象第8-9页
        1.2.2 迈斯纳效应第9页
        1.2.3 超导体的临界参数第9-10页
        1.2.4 超导体的分类及相变理论第10-12页
    1.3 MgB2超导材料的概况第12-16页
        1.3.1 MgB2超导体的发现及晶体结构第12-13页
        1.3.2 MgB2的超导机制第13页
        1.3.3 MgB2的基本特性第13-16页
        1.3.4 MgB2超导体的应用前景第16页
    1.4 MgB2约瑟夫森结的研究现状第16-21页
        1.4.1 MgB2约瑟夫森结的发展第16-17页
        1.4.2 MgB2-B-MgB2约瑟夫森结的研究现状第17-20页
        1.4.3 MgB2-MgO-MgB2约瑟夫森结的研究现状第20-21页
第二章 MgB2约瑟夫森结的特性及应用第21-43页
    2.1 约瑟夫森结第21-22页
    2.2 约瑟夫森结的模型和等效电路第22-25页
        2.2.1 RSCJ模型第22-24页
        2.2.2 RSJ模型第24页
        2.2.3 约瑟夫森结的等效电路第24-25页
    2.3 MgB2约瑟夫森结的特性第25-29页
        2.3.1 MgB2约瑟夫森结的直流效应及直流特性仿真第25-27页
        2.3.2 MgB2约瑟夫森结的交流效应及交流特性仿真第27-29页
    2.4 MgB2约瑟夫森结在超导RSFQ数字电路的应用第29-43页
        2.4.1 超导RSFQ数字电路的理论基础第29-35页
        2.4.2 超导RSFQ数字电路分支器的仿真研究第35-43页
第三章 MgB2超导薄膜的制备方法研究第43-55页
    3.1 MgB2超导薄膜的制备依据第43-45页
    3.2 化学气相沉积法(CVD)制备MgB2超导薄膜第45-49页
        3.2.1 化学气相沉积法第45-46页
        3.2.2 几种制备MgB2超导薄膜的方法第46-49页
    3.3 双温区混合物理气相沉积法(HPCVD)制备MgB2超导薄膜第49-51页
    3.4 MOCVD法制备MgB2超导薄膜第51-52页
    3.5 MgB2超导薄膜制备方法的比较第52-55页
第四章 MgB2-B-MgB2约瑟夫森结的制备与研究第55-63页
    4.1 B膜在不同温度下的特性研究第55-59页
        4.1.1 B的结构第55-56页
        4.1.2 B膜的制备第56页
        4.1.3 结果分析第56-59页
    4.2 MgB2-B-MgB2约瑟夫森结的制备第59-61页
    4.3 MgB2-B-MgB2约瑟夫森结的特性研究第61-63页
第五章 总结与展望第63-66页
    5.1 总结第63-65页
    5.2 展望第65-66页
参考文献第66-68页
在校期间的研究成果第68-69页
致谢第69-70页

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