| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第11-13页 |
| 2 文献综述 | 第13-30页 |
| 2.1 金刚石膜的性能和应用 | 第13-15页 |
| 2.2 MPCVD金刚石膜沉积方法 | 第15-17页 |
| 2.3 介电性能理论及其测试方法 | 第17-24页 |
| 2.3.1 介电性能理论 | 第17-20页 |
| 2.3.2 介电性能的测试方法 | 第20-24页 |
| 2.4 国内外金刚石膜介电性能的研究现状 | 第24-30页 |
| 3 研究方法 | 第30-36页 |
| 3.1 新型穹顶式MPCVD装置制备金刚石膜 | 第30-34页 |
| 3.1.1 新型穹顶式MPCVD设备 | 第30-31页 |
| 3.1.2 实验材料与过程 | 第31页 |
| 3.1.3 金刚石膜传统表征方法 | 第31-34页 |
| 3.2 金刚石膜微波介电性能的表征 | 第34-36页 |
| 3.2.1 微波介电性能测试装置的建立 | 第34页 |
| 3.2.2 金刚石膜的微波介电性能测试 | 第34-36页 |
| 4 高品质金刚石自支撑膜的制备与整体评价 | 第36-54页 |
| 4.1 甲烷浓度对金刚石自支撑膜沉积规律影响的研究 | 第36-46页 |
| 4.1.1 甲烷浓度系列金刚石膜的制备 | 第36-37页 |
| 4.1.2 传统表征方法对金刚石膜的整体评价 | 第37-46页 |
| 4.2 沉积温度对金刚石自支撑膜沉积规律影响的研究 | 第46-53页 |
| 4.2.1 沉积温度系列金刚石膜的制备 | 第46页 |
| 4.2.2 传统表征方法对金刚石膜的整体评价 | 第46-53页 |
| 4.3 小结 | 第53-54页 |
| 5 氮杂质对金刚石自支撑膜沉积规律影响的研究 | 第54-67页 |
| 5.1 氮掺杂系列金刚石膜的制备 | 第55页 |
| 5.2 传统表征方法对掺氮金刚石膜的整体评价 | 第55-66页 |
| 5.3 小结 | 第66-67页 |
| 6 微波介电性能测试装置的建立及对金刚石膜介电性能的表征 | 第67-87页 |
| 6.1 微波介电性能测试装置及测试方法的建立 | 第67-81页 |
| 6.1.1 微波介电性能测试装置的建立 | 第68-72页 |
| 6.1.2 微波介电性能的测试方法 | 第72-78页 |
| 6.1.3 微波介电性能测试装置误差分析 | 第78-80页 |
| 6.1.4 微波介电测试系统的稳定性和准确性 | 第80-81页 |
| 6.2 生长参数对高品质金刚石膜在K波段的介电性能影响 | 第81-84页 |
| 6.2.1 甲烷浓度对金刚石膜在K波段微波介电性能的影响 | 第81-83页 |
| 6.2.2 沉积温度对金刚石膜在K波段微波介电性能的影响 | 第83-84页 |
| 6.3 氮杂质对金刚石膜在K波段微波介电性能的影响 | 第84-85页 |
| 6.4 小结 | 第85-87页 |
| 7 MPCVD高品质金刚石膜介电损耗机制的讨论 | 第87-100页 |
| 7.1 金刚石膜微波介电性能的频率依赖性和温度依赖性研究 | 第88-95页 |
| 7.1.1 金刚石膜两个频率处介电性能的比较 | 第88-92页 |
| 7.1.2 金刚石膜微波介电性能的温度依赖性 | 第92-95页 |
| 7.2 金刚石膜微波介电损耗机制的讨论 | 第95-96页 |
| 7.3 氮杂质对所制备金刚石膜介电性能的影响规律讨论 | 第96-98页 |
| 7.4 小结 | 第98-100页 |
| 8 结论 | 第100-102页 |
| 9 主要创新点 | 第102-103页 |
| 参考文献 | 第103-115页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第115-119页 |
| 学位论文数据集 | 第119页 |
