双电子注Smith-Purcell超辐射的模拟研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 太赫兹科学技术简介 | 第10-13页 |
| 1.1.1 太赫兹波简介 | 第10-11页 |
| 1.1.2 太赫兹技术的应用 | 第11-12页 |
| 1.1.3 太赫兹辐射源 | 第12-13页 |
| 1.2 史密斯-帕赛尔超辐射现象 | 第13-15页 |
| 1.2.1 史密斯-帕赛尔效应 | 第13页 |
| 1.2.2 史密斯-帕赛尔超辐射现象的发现 | 第13-14页 |
| 1.2.3 超辐射的研究动态 | 第14-15页 |
| 1.3 本论文的创新点及主要工作 | 第15-16页 |
| 第二章 亚波长孔阵列波导结构色散的分析 | 第16-32页 |
| 2.1 周期系统 | 第16-19页 |
| 2.1.1 均匀系统与周期系统的差别 | 第16-17页 |
| 2.1.2 周期系统中的弗洛奎定理 | 第17-19页 |
| 2.2 慢波系统的色散特性 | 第19-20页 |
| 2.2.1 慢波系统 | 第19-20页 |
| 2.2.2 色散特性 | 第20页 |
| 2.3 冷腔系统中的色散分析 | 第20-31页 |
| 2.3.1 各分区的场的求解 | 第21-24页 |
| 2.3.2 边界匹配 | 第24-27页 |
| 2.3.3 色散方程 | 第27-29页 |
| 2.3.4 冷腔色散特性的分析 | 第29-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 基于亚波长孔阵列波导结构的模拟研究 | 第32-71页 |
| 3.1 仿真软件介绍 | 第32页 |
| 3.1.1 粒子模拟软件 | 第32页 |
| 3.1.2 仿真软件CST微波工作室 | 第32页 |
| 3.2 理论色散与模拟色散对比 | 第32-38页 |
| 3.2.1 粒子模拟软件绘制色散曲线 | 第33-35页 |
| 3.2.2 仿真软件CST绘制色散曲线 | 第35-37页 |
| 3.2.3 三种色散曲线的比较 | 第37-38页 |
| 3.3 基波频率为 100GHz的二维模拟 | 第38-55页 |
| 3.3.1 模拟结构及参数 | 第38-39页 |
| 3.3.2 非相干Smith-Purcell辐射 | 第39-40页 |
| 3.3.3 相干Smith-Purcell辐射 | 第40-45页 |
| 3.3.4 起振电流分析 | 第45-55页 |
| 3.3.5 三种结果比较 | 第55页 |
| 3.4 基波频率为 300GHz的二维模拟 | 第55-63页 |
| 3.4.1 模拟参数 | 第56-59页 |
| 3.4.2 起振电流比较 | 第59-63页 |
| 3.4.3 三种结果比较 | 第63页 |
| 3.5 三维模拟 | 第63-70页 |
| 3.5.1 横向尺寸对传播模式的影响 | 第64页 |
| 3.5.2 横向尺寸对色散的影响 | 第64-65页 |
| 3.5.3 最终参数 | 第65-70页 |
| 3.6 本章小结 | 第70-71页 |
| 第四章 总结与展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
