梯度AZO薄膜的制备及其性能的研究
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 晶体硅太阳电池的发展及现状 | 第11-12页 |
| 1.3 晶体硅太阳电池的钝化 | 第12-15页 |
| 1.3.1 表面复合理论 | 第12-14页 |
| 1.3.2 表面钝化技术 | 第14-15页 |
| 1.4 AZO材料的特性 | 第15-16页 |
| 1.4.1 AZO薄膜的电学特性 | 第16页 |
| 1.4.2 AZO薄膜的光学特性 | 第16页 |
| 1.5 梯度AZO薄膜的制备方法 | 第16-19页 |
| 1.5.1 磁控溅射法 | 第17页 |
| 1.5.2 溶胶-凝胶法 | 第17页 |
| 1.5.3 原子层沉积法 | 第17-19页 |
| 1.6 梯度AZO薄膜的研究现状 | 第19页 |
| 1.7 本论文的研究意义与内容 | 第19-21页 |
| 2 梯度AZO薄膜的制备与表征 | 第21-27页 |
| 2.1 实验原料及设备 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第21页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第21-22页 |
| 2.2 实验方法 | 第22-25页 |
| 2.2.1 薄膜制备过程 | 第22页 |
| 2.2.2 实验原理 | 第22-23页 |
| 2.2.3 实验方案 | 第23-25页 |
| 2.3 梯度AZO薄膜的性能表征 | 第25-27页 |
| 3 工艺条件对梯度AZO薄膜结构及性能的影响 | 第27-37页 |
| 3.1 梯度AZO薄膜的生长速率 | 第27-28页 |
| 3.2 梯度AZO薄膜的结构特性 | 第28-30页 |
| 3.3 梯度AZO薄膜的表面形貌 | 第30-32页 |
| 3.4 梯度AZO薄膜的电学特性 | 第32-33页 |
| 3.5 梯度AZO薄膜的光学特性 | 第33-35页 |
| 3.6 梯度AZO薄膜的钝化性能 | 第35页 |
| 3.7 本章小结 | 第35-37页 |
| 4 铝浓度梯度对梯度AZO薄膜结构及性能的影响 | 第37-47页 |
| 4.1 梯度AZO薄膜成分分析 | 第37-38页 |
| 4.2 梯度AZO薄膜结构及形貌分析 | 第38-42页 |
| 4.2.1 梯度AZO薄膜的晶体结构 | 第38-40页 |
| 4.2.2 梯度AZO薄膜的表面形貌 | 第40-42页 |
| 4.3 梯度AZO薄膜性能分析 | 第42-45页 |
| 4.3.1 梯度AZO薄膜的电学性能 | 第42-43页 |
| 4.3.2 梯度AZO薄膜的光学性能 | 第43-44页 |
| 4.3.3 梯度AZO薄膜的钝化性能 | 第44-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 5 退火处理对梯度AZO薄膜钝化性能的影响 | 第47-52页 |
| 5.1 梯度AZO薄膜退火后的钝化性能 | 第47-49页 |
| 5.2 梯度AZO薄膜退火温度的优化 | 第49-50页 |
| 5.3 梯度AZO薄膜钝化晶硅机制 | 第50页 |
| 5.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 6 梯度AZO薄膜钝化在晶体硅太阳电池中的应用 | 第52-54页 |
| 6.1 传统工艺 | 第52页 |
| 6.2 潜在应用 | 第52-54页 |
| 7 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
