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聚砜膜的疏水改性及在真空膜蒸馏中的研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第1章 文献综述第11-29页
   ·膜蒸馏装置第12-13页
   ·常用膜组件第13-15页
     ·平板膜组件第13-14页
     ·管状膜组件第14-15页
   ·膜蒸馏材料第15-20页
     ·常用膜第15-17页
     ·膜的疏水改性第17-20页
   ·膜的性能表征第20-23页
     ·表面静态水接触角第20-21页
     ·液体进入压力(LEPw)第21页
     ·膜的孔径分布的测定第21-22页
     ·原子力显微镜表征第22-23页
   ·膜润湿与膜污染第23-24页
   ·膜蒸馏过程中的极化现象第24-25页
     ·温差极化第24页
     ·浓差极化第24-25页
   ·膜蒸馏应用第25-27页
     ·食品领域第25页
     ·苦咸水的淡化第25-26页
     ·海水淡化第26页
     ·挥发性有机物的分离第26页
     ·废水处理第26-27页
   ·膜蒸馏的发展前景第27-28页
   ·本文研究内容第28-29页
第2章 氨基硅油乳液改性PSF膜第29-41页
   ·实验部分第29-32页
     ·实验材料及仪器第29-30页
     ·改性机理第30-31页
     ·实验步骤第31-32页
   ·膜性能讨论第32-33页
   ·膜改性结果讨论第33-35页
     ·KH550质量分数对接触角的影响第33页
     ·KH550溶液处理温度对接触角的影响第33-34页
     ·KH550溶液的处理时间对接触角的影响第34页
     ·ASOE接枝温度对PSF膜接触角的影响第34-35页
     ·ASOE接枝时间对PSF膜接触角的影响第35页
   ·膜性能测试与表征第35-40页
     ·孔隙率及LEPw第35-36页
     ·膜孔径分布第36页
     ·膜的稳定性测试第36-37页
     ·接触角表征第37页
     ·全反射-傅里叶红外(ATR-FTIR)表征第37-38页
     ·扫描电子显微镜(SEM)表征第38-39页
     ·原子力显微镜(AFM)表征第39-40页
   ·本章结论第40-41页
第3章 三甲基氯硅烷改性PSF膜第41-51页
   ·实验部分第41-43页
     ·实验材料及仪器第41页
     ·改性机理第41-42页
     ·实验步骤第42-43页
   ·结果与讨论第43-44页
     ·不同摩尔比对PSF膜接触角的影响第43页
     ·反应温度对PSF膜接触角的影响第43-44页
     ·反应时间对PSF膜接触角的影响第44页
   ·膜性能测试与表征第44-50页
     ·孔隙率及LEPw第44-45页
     ·改性前后膜的孔径分布第45页
     ·膜的稳定性测试第45-46页
     ·接触角表征第46页
     ·全反射-傅里叶红外(ATR-FTIR)表征第46-47页
     ·能谱仪(EDS)表征第47页
     ·扫描电子显微镜(SEM)表征第47-48页
     ·原子力显微镜(AFM)表征第48-50页
   ·本章结论第50-51页
第4章 真空膜蒸馏实验第51-62页
   ·实验部分第51-53页
     ·实验仪器与试剂第51页
     ·实验步骤第51-52页
     ·数据处理方法第52-53页
   ·结果与讨论第53-57页
     ·进料液浓度对膜通量和脱盐率的影响第53-54页
     ·进料液流量对膜通量和脱盐率的影响第54-55页
     ·进料液温度对膜通量和脱盐率的影响第55-56页
     ·真空度对膜通量和脱盐率的影响第56-57页
   ·盐水浓缩实验第57-58页
   ·膜污染及通量恢复第58-61页
     ·膜污染第58-59页
     ·膜通量恢复第59-61页
   ·本章小结第61-62页
第5章 结论与展望第62-64页
   ·结论第62页
   ·展望第62-64页
参考文献第64-72页
致谢第72-73页
硕士期间发表的论文第73页

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