高线密度X射线自支撑闪耀透射光栅的制作
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·传统金自支撑透射光栅 | 第13-14页 |
| ·传统金自支撑透射光栅的制作方法 | 第13页 |
| ·传统金自支撑透射光栅的局限 | 第13-14页 |
| ·新型自支撑闪耀透射光栅 | 第14-23页 |
| ·闪耀透射光栅基本原理 | 第14-16页 |
| ·闪耀透射光栅的特点 | 第16-17页 |
| ·自支撑闪耀透射光栅制作方法简介 | 第17-19页 |
| ·自支撑闪耀透射光栅国内外研究进展 | 第19-23页 |
| ·选题意义与论文构成 | 第23-26页 |
| ·选题意义 | 第23页 |
| ·论文构成 | 第23-26页 |
| 第二章 5000 1/mm光栅掩模的制作 | 第26-44页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·全息光刻制作50001/mm光栅掩模 | 第26-37页 |
| ·全息光路类型的选择 | 第26-28页 |
| ·劳埃镜全息光路的设计 | 第28-29页 |
| ·提高干涉条纹稳定性 | 第29-31页 |
| ·干涉条纹对比度的分析 | 第31-36页 |
| ·曝光显影条件的控制 | 第36-37页 |
| ·纳米压印制作50001/mm光栅掩模 | 第37-43页 |
| ·纳米压印工艺方案的确定 | 第39-41页 |
| ·具体工艺步骤 | 第41页 |
| ·实验结果及讨论 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 光栅掩模与垂直{111}面的精确对准 | 第44-62页 |
| ·引言 | 第44-48页 |
| ·光栅掩模与垂直{111}面精确对准的作用 | 第44-45页 |
| ·对准方法回顾 | 第45-48页 |
| ·劳埃镜全息光刻制作光栅掩模的对准方法 | 第48-59页 |
| ·对准流程总述 | 第49页 |
| ·定位<110>硅片的垂直{111}面 | 第49-52页 |
| ·制作参考光栅 | 第52-53页 |
| ·优化劳埃镜全息光路 | 第53-55页 |
| ·参考光栅与干涉条纹的对准 | 第55-56页 |
| ·干涉条纹与垂直{111}面的对准误差及误差验证 | 第56-59页 |
| ·纳米压印制作光栅掩模的对准方法 | 第59-61页 |
| ·参考光栅与PUA/PET印模的对准 | 第59-60页 |
| ·PUA/PET印模与垂直{111}面的对准误差 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 各向异性湿法刻蚀工艺 | 第62-72页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·各向异性湿法刻蚀剂 | 第62页 |
| ·各向异性湿法刻蚀的工艺宽容度 | 第62-64页 |
| ·改善湿法刻蚀均匀性 | 第64-68页 |
| ·湿法刻蚀均匀性的影响因素 | 第64-65页 |
| ·改善湿法刻蚀均匀性的措施 | 第65-68页 |
| ·湿法刻蚀条件的选择 | 第68-69页 |
| ·湿法刻蚀后的光栅侧壁粗糙度 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 自支撑闪耀透射光栅的制作 | 第72-86页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·SOI硅片 | 第72-73页 |
| ·自支撑闪耀透射光栅制作工艺 | 第73-82页 |
| ·对准标志的制作 | 第73页 |
| ·光栅样品单元及自支撑结构掩模的制作 | 第73-75页 |
| ·氮化硅湿法保护掩模的制作 | 第75-80页 |
| ·背面去衬底 | 第80-81页 |
| ·正面高高宽比硅光栅的制作及干燥 | 第81-82页 |
| ·实验结果 | 第82-83页 |
| ·存在的问题 | 第83页 |
| ·本章小结 | 第83-86页 |
| 第六章 总结与展望 | 第86-88页 |
| ·论文总结 | 第86-87页 |
| ·论文的主要创新点 | 第87页 |
| ·后续工作 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-98页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第98-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
