| 中文摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-41页 |
| ·石墨烯 | 第14-29页 |
| ·石墨烯的结构、性质及应用 | 第14-18页 |
| ·石墨烯的拉曼光谱 | 第18-23页 |
| ·石墨烯的电场效应 | 第23-29页 |
| ·石墨烯场效应晶体管 | 第29-33页 |
| ·石墨烯场效应晶体管概述 | 第29-30页 |
| ·石墨烯场效应晶体管中的迟滞效应 | 第30-31页 |
| ·迟滞效应机理及抑制方法研究进展 | 第31-33页 |
| ·石墨烯增强拉曼散射效应 | 第33-39页 |
| ·表面增强拉曼散射效应 | 第34-37页 |
| ·石墨烯增强拉曼散射效应 | 第37-38页 |
| ·石墨烯增强拉曼散射机理探讨 | 第38-39页 |
| ·石墨烯增强拉曼光谱的应用展望 | 第39页 |
| ·本论文选题目的和研究思路 | 第39-41页 |
| 第二章 石墨烯增强拉曼散射效应中的界面电荷转移研究 | 第41-56页 |
| ·引言 | 第41-42页 |
| ·电场调制石墨烯增强拉曼光谱方法的建立 | 第42-45页 |
| ·设计思想 | 第42-44页 |
| ·试验部分 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-55页 |
| ·电场对石墨烯费米能级的调控 | 第45-46页 |
| ·电场对石墨烯增强分子拉曼的调制 | 第46-51页 |
| ·分子能带结构对石墨烯增强拉曼的影响 | 第51-55页 |
| ·本章结论 | 第55-56页 |
| 第三章 界面电荷转移的调控与石墨烯增强拉曼光谱 | 第56-68页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·实验设计 | 第56-57页 |
| ·实验部分 | 第57-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-67页 |
| ·真空环境下电场调制石墨烯增强拉曼光谱 | 第58-60页 |
| ·n型掺杂气愤下电场调制石墨烯增强拉曼光谱 | 第60-62页 |
| ·p型掺杂气愤下电场调制石墨烯增强拉曼光谱 | 第62-65页 |
| ·石墨烯/分子界面电荷转移的调控与拉曼增强的关系 | 第65-67页 |
| ·本章结论 | 第67-68页 |
| 第四章 石墨烯场效应器件中迟滞效应的拉曼光谱研究 | 第68-84页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·实验设计 | 第68-69页 |
| ·试验部分 | 第69-70页 |
| ·结果与讨论 | 第70-83页 |
| ·石墨烯拉曼光谱的场效应特征 | 第70-74页 |
| ·拉曼光谱原位跟踪不同气氛下的迟滞效应特征 | 第74-75页 |
| ·石墨烯/SiO_2基底界面电荷转移与迟滞效应 | 第75-78页 |
| ·石墨烯的电化学掺杂机理和迟滞动力学平衡分析 | 第78-83页 |
| ·本章结论 | 第83-84页 |
| 第五章 石墨烯/基底界面电荷转移的抑制方法研究 | 第84-97页 |
| ·引言 | 第84-86页 |
| ·实验设计 | 第86页 |
| ·实验部分 | 第86-89页 |
| ·结果与讨论 | 第89-96页 |
| ·不同石墨烯/BN复合器件抑制迟滞效应探索 | 第89-91页 |
| ·基于BN/SiO_2基底工程的石墨烯p-n节构筑 | 第91-96页 |
| ·本章结论 | 第96-97页 |
| 第六章 总结与展望 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-110页 |
| 在学期间的研究成果和作者简历 | 第110-112页 |
| 致谢 | 第112页 |