基于石墨烯与光波导电光调制器的调制机理研究与制备

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
第一章 绪论	第8-16页
·本课题研究的背景	第8-10页
·调制器的国内外研究现状	第10-13页
·本文的主要研究内容及意义	第13-16页
第二章 石墨烯与光波导光电调制器模型建立	第16-22页
·光波导耦合机理研究	第16-17页
·石墨烯调制机理研究	第17-20页
·石墨烯吸收机理	第17-19页
·调制速度 3dB 带宽	第19-20页
·调制器模型建立	第20页
·本章小结	第20-22页
第三章 石墨烯与光波导光电调制器的制备	第22-42页
·关键工艺介绍	第22-23页
·光刻工艺	第22页
·电子束光刻工艺	第22页
·湿法刻蚀与干法刻蚀工艺	第22-23页
·薄膜沉积工艺	第23页
·剥离工艺	第23页
·引线键合工艺	第23页
·敏感单元制备	第23-27页
·高 Q 微环谐振腔制备	第23-25页
·高质量石墨烯的制备	第25-27页
·石墨烯调制器制备	第27-39页
·第一次工艺研发	第28-37页
·第二次工艺研发	第37-39页
·工艺限制分析	第39-40页
·本章小结	第40-42页
第四章 石墨烯调制机理验证	第42-48页
·测试平台的搭建	第42-43页
·调制器的性能测试	第43-46页
·直波导石墨烯调制特性分析	第43-44页
·环形波导石墨烯调制特性分析	第44-46页
·本章小结	第46-48页
第五章 总结与展望	第48-50页
·论文主要研究工作及创新性	第48-49页
·下一步工作及未来研究方向	第49-50页
参考文献	第50-54页
攻读硕士学位期间的研究成果	第54-56页
致谢	第56-57页