纳米结构掺钨VOx薄膜的光学特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·氧化钒的晶体结构与性质 | 第10-14页 |
| ·氧化钒的晶体结构 | 第10页 |
| ·氧化钒的性质 | 第10-11页 |
| ·氧化钒的理论研究 | 第11-14页 |
| ·氧化钒薄膜的应用 | 第14-15页 |
| ·氧化钒薄膜的常见制备方法 | 第15-17页 |
| ·氧化钒薄膜的研究现状 | 第17-18页 |
| ·本论文研究的内容 | 第18-19页 |
| 第二章 VOx 薄膜的制备及测试方法 | 第19-24页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·薄膜制备原理 | 第19-21页 |
| ·溅射沉积原理 | 第19-21页 |
| ·磁控溅射系统 | 第21页 |
| ·薄膜表征手段 | 第21-23页 |
| ·原子力显微镜 | 第21-22页 |
| ·傅里叶红外光谱仪 | 第22页 |
| ·X-ray 衍射仪 | 第22-23页 |
| ·本章小节 | 第23-24页 |
| 第三章 VOx 薄膜的工艺优化和性能分析 | 第24-37页 |
| ·VOx 薄膜的制备 | 第24-25页 |
| ·不同氧分压对 VOx 薄膜的影响 | 第25-32页 |
| ·不同氧分压对 VOx 薄膜表面形貌的影响 | 第25-28页 |
| ·不同氧分压对 VOx 薄膜结晶取向的影响 | 第28-31页 |
| ·不同氧分压对 VOx 薄膜红外透过率的影响 | 第31-32页 |
| ·退火对 VOx 薄膜的影响 | 第32-36页 |
| ·退火对 VOx 薄膜表面形貌的影响 | 第32-34页 |
| ·退火对 VOx 薄膜红外透过率的影响 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 VOx/W/VOx 薄膜的制备与测试分析 | 第37-50页 |
| ·VOx/W/VOx 薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·功能层厚度对 VOx 薄膜的影响 | 第38-45页 |
| ·功能层厚度对 VOx 薄膜表面形貌的影响 | 第38-41页 |
| ·功能层厚度对 VOx 薄膜方块电阻的影响 | 第41页 |
| ·功能层厚度对 VOx 薄膜结晶取向的影响 | 第41-43页 |
| ·功能层厚度对 VOx 薄膜红外透过率的影响 | 第43-45页 |
| ·退火对 VOx 薄膜的影响 | 第45-49页 |
| ·退火对薄膜表面形貌的影响 | 第45-47页 |
| ·退火对薄膜方块电阻的影响 | 第47-48页 |
| ·退火对薄膜红外光透过率的影响 | 第48-49页 |
| ·本章小节 | 第49-50页 |
| 第五章 总结与展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 发表论文和科研情况 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
