| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化技术的原理及其应用 | 第11-16页 |
| ·半导体光催化反应的基本原理 | 第11-14页 |
| ·光催化技术的主要应用 | 第14-16页 |
| ·新型光催化材料的设计思路 | 第16-22页 |
| ·光催化材料研究进展 | 第17-18页 |
| ·提高光催化材料性能的途径 | 第18-22页 |
| ·论文的选题意义及研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 实验方法及原理 | 第24-30页 |
| ·纳米粉体光催化材料的制备方法 | 第24-25页 |
| ·物理法制备方法 | 第24页 |
| ·化学法制备方法 | 第24-25页 |
| ·光催化材料的表征手段 | 第25-27页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第25-26页 |
| ·扫描电子显微镜 (SEM) | 第26页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱（UV-Vis DRS） | 第26-27页 |
| ·光催化性能测试 | 第27-30页 |
| ·光化学反应系统 | 第27页 |
| ·模拟污染物的选取及实验方法 | 第27-28页 |
| ·光催化降解效果的评价方法 | 第28-30页 |
| 第三章 卤氧化物光催化剂 MO_2F（M=Nb，Ta）及 BiOX（X=Cl，Br，I）的制备、表征及光催化性能研究 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第31-32页 |
| ·实验部分 | 第32-33页 |
| ·材料的制备 | 第32页 |
| ·材料的表征和测试 | 第32页 |
| ·光催化实验 | 第32-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-40页 |
| ·相结构和形貌 | 第33-36页 |
| ·紫外-可见漫反射分析 | 第36-38页 |
| ·催化剂的光催化性能 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 卤氧化铋光催化剂的改性研究 | 第42-54页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第42-43页 |
| ·实验部分 | 第43-45页 |
| ·材料的制备 | 第43-44页 |
| ·材料的表征和测试 | 第44页 |
| ·光催化实验 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-52页 |
| ·催化剂的晶相和形貌 | 第45-47页 |
| ·紫外-可见漫反射分析 | 第47-49页 |
| ·催化剂的光催化性能 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读学位期间发表的的学术论文目录 | 第65-66页 |