| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-17页 |
| ·超硬材料简介 | 第8-11页 |
| ·超硬材料的定义 | 第8-9页 |
| ·超硬材料的发展 | 第9-10页 |
| ·超硬材料的前景 | 第10-11页 |
| ·计算材料学简介 | 第11-12页 |
| ·计算材料学特点 | 第11页 |
| ·材料计算方法 | 第11-12页 |
| ·材料计算发展 | 第12页 |
| ·材料计算工具 | 第12页 |
| ·碳、氮、硼的结构及性质 | 第12-17页 |
| ·碳元素 | 第12-13页 |
| ·硼元素 | 第13页 |
| ·氮元素 | 第13-14页 |
| ·氮化硼 | 第14-17页 |
| 第二章 密度泛函理论 | 第17-23页 |
| ·密度泛函理论 | 第17-19页 |
| ·Tomas-Fermi 模型 | 第17-18页 |
| ·Hohenberg-Kohn 定理 | 第18页 |
| ·Kohn-Sham 方程 | 第18-19页 |
| ·交换关联能 | 第19-20页 |
| ·局域密度近似（Local Density Approximation LDA） | 第20页 |
| ·广义梯度近似（Generalized Gradient Approximation GGA） | 第20页 |
| ·赝势方法 | 第20-23页 |
| 第三章 单向应力对W-BN 晶体结构影响 | 第23-27页 |
| ·W-BN 结构简介 | 第23页 |
| ·计算模型和方法 | 第23-24页 |
| ·W-BN 电子结构的计算 | 第24-25页 |
| ·单向剪切力对本征材料硬度的影响 | 第25-26页 |
| ·类石墨层的出现 | 第26-27页 |
| 第四章 双向应力对W-BN 硬度的影响 | 第27-30页 |
| 第五章 双向应力下掺杂对W-BN 硬度的影响 | 第30-36页 |
| ·计算模型和方法 | 第30页 |
| ·双向应力下N 掺杂W-BN | 第30-31页 |
| ·双向应力作用下O 掺杂W-BN | 第31页 |
| ·双向应力作用下Si 掺杂W-BN | 第31-32页 |
| ·双向应力作用下 Si 掺杂 W-BN | 第32页 |
| ·实验数据分析 | 第32-36页 |
| 总结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 致谢 | 第39页 |