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延伸角锥刀刻划衍射光栅槽形控制研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-8页
第一章 绪论第8-14页
   ·引言第8页
   ·国内外机械刻划光栅的研究现状第8-11页
   ·机械刻划光栅的制造第11-12页
   ·课题来源及其研究意义第12-13页
   ·主要研究内容第13-14页
第二章 光栅刻划工艺的数学与力学模型第14-30页
   ·光栅刻划刀数学模型的建立第14-19页
     ·建立坐标系第14-15页
     ·创建各刃及各平面方程第15-17页
     ·旋转坐标系第17-18页
     ·创建旋转后各面方程第18页
     ·创建旋转后的各刃方程第18-19页
   ·光栅刻划刀的参数化建模第19-21页
     ·参数化设计第19-20页
     ·参数化建模第20-21页
   ·光栅刻划力学模型第21-29页
     ·滑移线的基本概念与假设第22-24页
     ·压入过程滑移线场模型第24-26页
     ·压入过程的速度场模型第26-27页
     ·刻划深度及隆起高度的计算第27-29页
   ·小结第29-30页
第三章 光栅刻划有限元分析的基本理论第30-44页
   ·有限元方法分析刻划过程概述第30-32页
   ·有限元软件介绍第32页
   ·有限元仿真关键技术第32-34页
     ·动态接触边界的处理第32-33页
     ·网格畸变第33-34页
     ·网格重划技术第34页
   ·光栅铝膜的压痕实验研究第34-40页
     ·纳米压痕过程的描述第35-36页
     ·实验方法第36页
     ·压痕实验过程第36-37页
     ·实验数据处理第37-40页
   ·DEFORM刻划的过程第40-43页
     ·模型的创建过程第40页
     ·材料选择第40-41页
     ·网格划分第41-42页
     ·其他条件的设定第42-43页
   ·小结第43-44页
第四章 光栅刻划工艺参数的优化第44-63页
   ·刻划工艺参数的单因素分析第44-53页
   ·正交模拟试验设计第53-54页
     ·正交试验设计的基本概念第53-54页
     ·正交表第54页
   ·光栅刻划工艺参数正交模拟试验设计的基本程序第54-61页
     ·光栅刻划模拟试验方案设计第54-57页
     ·光栅刻划模拟试验结果分析第57-61页
   ·误差分析第61-62页
   ·小结第62-63页
第五章 光栅刻划过程金属流动规律的研究第63-69页
   ·Deform-3D软件的后处理功能第63页
   ·模拟结果及分析第63-68页
     ·刻划过程金属流动分析第64-65页
     ·等效应力分布第65-67页
     ·等效应变分布第67-68页
   ·小结第68-69页
结论第69-71页
致谢第71-72页
参考文献第72-73页

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