铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜的制备和性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-43页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金 | 第14-27页 |
| ·Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金 | 第14-15页 |
| ·磁控形状记忆效应微观机制 | 第15-27页 |
| ·Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜 | 第27-37页 |
| ·Ni-Mn-Ga合金薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·Ni-Mn-Ga合金薄膜的马氏体相变 | 第28-31页 |
| ·Ni-Mn-Ga合金薄膜的形状记忆效应 | 第31-37页 |
| ·本论文的研究内容和意义 | 第37-39页 |
| ·选题的意义 | 第37-38页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-43页 |
| 第二章 实验原理及方法 | 第43-52页 |
| ·样品制备 | 第43-44页 |
| ·测试方法 | 第44-51页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第44-45页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第45-46页 |
| ·差热分析仪(DSC) | 第46-47页 |
| ·扫描探针显微镜(SPM) | 第47-48页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第48-49页 |
| ·超导量子干涉仪(SQUID) | 第49-50页 |
| ·综合物性测量系统(PPMS) | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第三章 制备参数对Ni-Mn-Ga薄膜性能的影响 | 第52-81页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·衬底对Ni-Mn-Ga薄膜的影响 | 第53-58页 |
| ·溅射功率对Ni-Mn-Ga薄膜的影响 | 第58-60页 |
| ·溅射气压对低温沉积高温退火薄膜的影响 | 第60-65页 |
| ·实验过程 | 第60-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-65页 |
| ·结论 | 第65页 |
| ·溅射气压对高温沉积薄膜的影响 | 第65-69页 |
| ·沉积温度对Ni-Mn-Ga薄膜的影响 | 第69-76页 |
| ·实验方法 | 第69页 |
| ·结果和讨论 | 第69-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
| 第四章 Ni-Mn-Ga薄膜中的驱动模式 | 第81-100页 |
| ·引言 | 第81-82页 |
| ·实验方法 | 第82页 |
| ·磁场诱导马氏体再取向 | 第82-84页 |
| ·外加磁场对磁畴结构的影响 | 第84-86页 |
| ·Ni-Mn-Ga薄膜的马氏体相变过程 | 第86-88页 |
| ·通过磁畴结构的演变原位观察马氏体再取向 | 第88-95页 |
| ·磁场诱导马氏体相变 | 第95-97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-100页 |
| 第五章 Ni-Mn-Ga无支撑薄膜 | 第100-109页 |
| ·引言 | 第100-101页 |
| ·利用NaCl衬底制备的无支撑薄膜 | 第101-106页 |
| ·实验过程 | 第101页 |
| ·结果与讨论 | 第101-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-109页 |
| 第六章 全文总结 | 第109-111页 |
| 攻读博士学位期间已发表或待发表的论文 | 第111-112页 |
| 致谢 | 第112-113页 |
